ニッケルクロム(NiCr)ターゲット
薄膜形成やマイクロエレクトロニクス製造、建築ガラスのLow-E膜・液晶パネル・記録メディアなどに利用可能なニッケルクロム!
■純度:99.5%~99.95% ■密度(8.4 g/cm³) ■製造方法:真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業:株式会社スパッタコア 本社
- 価格:応相談
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薄膜形成やマイクロエレクトロニクス製造、建築ガラスのLow-E膜・液晶パネル・記録メディアなどに利用可能なニッケルクロム!
■純度:99.5%~99.95% ■密度(8.4 g/cm³) ■製造方法:真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。