プラズマCVD装置
プラズマCVD装置
●コンパクトな設計でありながら、試料は3インチウエハーなら5枚、4インチウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。
プラズマCVD装置(設計) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり
更新日： 集計期間:2026年10月14日～2026年11月10日
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プラズマCVD装置の製品一覧
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プラズマCVD装置 Concept-150/200
省スペース設計で、バキュームポンプ・モジュールはプロセス・モジュールから最大18ｍ離して設置することができます。
本装置は、4/5/6 及び 8 インチ・ウェハーに対応しており、プラズマ CVD 法によってウェハーに酸化シリコン膜及び窒化シリコン膜を形成するものです。 基本構成は、プロセス・モジュール及び RF ジェネレータ・モジュール（高周波,低周波各 1Set ）、バキュームポンプ・モジュールの 3 モジュールで構成され ます。
プラズマCVD装置
漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機構で交換
『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。 マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料の距離を変更できるよう、マイクロ波導波管を 上下できる機構を備えています。 【特長】 ■実験用に極端に簡素化して製作 ■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■試料の取付は、下部よりモーターによる上下機構で交換 ■漏洩マイクロ波検出用も付属 ■内部機構は全てコンパクトに設計されており省スペース化を実現 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社和泉テック
- 価格：応相談
立体物対応実験用プラズマCVD装置(DLC、アモルファスSiC)
対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃）
当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。 当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて 装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種：DLC、アモルファスSiC等 ■基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃） ■PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社DINOVAC
- 価格：応相談
CVD装置の設計・製造・組立＜ハーネス加工＞
ハーネス加工の簡素化などの提案を行い、ハーネス検査用のソフトの導入をして、量産化を実現！
半導体製造装置メーカーよりOEM生産の依頼があり、 当社にてハーネス(電気配線)加工を実施しました。 ハーネス加工の簡素化などをご提案し、またハーネス検査用のソフトの 導入をし、量産化を実現。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【製作実績の概要】 ■量産対応300mmウェハプラズマCVD装置 ■低容量チャンバによるガス使用効率の向上 ■チャンバ間、ウェハ間での高い再現性 ■低coo ■メンテナンス性の向上 ■高い電力効率 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社シナノ精機
- 価格：応相談
CVD装置の設計・製造・組立＜機械・電気＞
開発機及び量産機ともに製造に関わり、短期間での製造・量産化での製造を実現！
当社は、半導体製造装置メーカーよりOEM生産の依頼があり、 「CVD装置」の機械及び電気組立を実施しました。 開発機及び量産機ともに製造に関わり、短期間での 製造・量産化での製造を実現。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【製作実績の概要】 ■量産対応300mmウェハプラズマCVD装置 ■低容量チャンバによるガス使用効率の向上 ■チャンバ間、ウェハ間での高い再現性 ■低coo ■メンテナンス性の向上 ■高い電力効率 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社シナノ精機
- 価格：応相談
