【表面処理】耐プラズマエロージョン 半導体製造装置関連
半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、イットリア溶射をコートすることで耐プラズマエロージョンを付与
■溶射材料:イットリア ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工方法:耐プラズマエロージョン ■施工実績:半導体製造装置関連
- 企業:富士岐工産株式会社
- 価格:応相談
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半導体製造装置関連の真空チャンバー内等で使用される部品に対して、イットリア溶射をコートすることで耐プラズマエロージョンを付与
■溶射材料:イットリア ■溶射方法:プラズマ溶射 ■施工方法:耐プラズマエロージョン ■施工実績:半導体製造装置関連
基材と溶射皮膜の密着性が高いなどの特性をもっています。
溶射法 「プラズマ溶射」は、不活性ガスを通電し、プラズマジェットを形成させ、これに粉末状の溶射材料を投入し皮膜を形成するプロセスです。 高融点の金属、サーメット、セラミックスをはじめ、ほとんどの材料を溶射することができます。 また、基材と溶射皮膜の密着性が高いなどの特性をもっています。 【特徴】 ○広範囲の基材に溶射加工ができ、幅広い溶射材料選択が可能 ○基材に熱影響を与えない ○基材の寸法に制限がない ○必要とする範囲のみの加工が可能 ○現地施工が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。