GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置 【無料デモ実施中！】
ドライ洗浄により冶具が長持ち・コスト削減！ウェット洗浄に比べて大幅な時間短縮！
GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。 パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向上、ランニングコストの削減に効果を発揮します。 ★☆★【無料デモ】実施中！！★☆★ 【特徴】 ●ＧａＮ成膜装置に使用する各種冶具のドライ洗浄に最適 ●洗浄可能な冶具は、ＳｉＣコートカーボン、石英等。 ●ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 。 ●ウェット洗浄に必要な高価な大量の予備部品は不要 ●本装置導入でメンテナンス費用の削減に貢献可能！ ●作業者に負担のかからない安全設計。 ★【無料デモ】ご希望の方は≪お問い合わせ≫よりご連絡ください★
- 企業：株式会社メープル
- 価格：応相談
