高電圧半導体パルス発生ユニット
±40V／1000V/μsの鋭いエッジを生成し、NVM・MEMS・中出力デバイス試験に対応！PXIe対応の高電圧パルス源ユニッ
単一チャネルの高電圧半導体パルス発生ユニットであり、調整可能な高精度・高電圧のパルス信号を出力することができます。 ・高電圧レンジ ±40Vの出力に対応し、NVM（不揮発性メモリ）テストの技術条件を満たします。 ・高速スルーレート対応の高電圧 1000V/μsの高速スルーレートを実現する高電圧パルスソースにより、より鋭いエッジの生成が可能です。 ・PXIeインターフェース PXIeインターフェース設計に基づき、標準PXIeシャーシに適合可能。マルチチャネル拡張が容易で、他のPXIe計測機器とのシャーシ共有にも対応し、利便性の高い半導体テストシステムを構築可能です。 ・多レベルパルス出力 2レベルや3レベルのパルス出力に対応し、複数パルスの組み合わせを実現。半導体テストにおける多段階パルスのニーズに応えます。 ・ALWG機能 CSVベースでのユーザーによるテキスト編集に対応し、任意のリニア波形信号を出力可能です。 ・ソフトウェア機能 GUIは非常に直感的かつ簡潔に設計されており、各チャネルの出力電圧波形設定を簡単に構成できます。
- 企業：Semi Next株式会社 本社、三重事業所
- 価格：応相談
