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半導体製造プロセスは高密度、微細化の進展によりRTPが重要な加熱技術として注目されています。
MILA-5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特長である高速加熱・冷却、クリーン加熱が行なえます。自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。 加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行なえ、手軽にデータ管理出来ます。
加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体化したコンパクトな卓上型ランプ加熱装置で、50mm角試料までの熱処理を実現！
本装置は、試料寸法50mm 角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。試料寸法20mm 角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000 シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm 角までの熱処理を可能といたしました。
