非接触マランゴニ乾燥で高品質な洗浄後乾燥を実現
低パーティクルと高精度乾燥で歩留まり向上に貢献！
本装置は、半導体、電子デバイス、ガラスディスク、光学部品などの 洗浄後乾燥工程向けの高性能マランゴニ乾燥装置です。 低パーティクルかつ高品質な乾燥を実現し、製品の歩留まり向上に 貢献します。水跡や乾燥ムラを抑えた高精度乾燥が可能で、 クリーン環境下での精密部品製造に好適です。 また、既存のウェットプロセス装置との親和性が高く、一体化ラインへの 導入にも対応します。 【特長】 ■低パーティクル乾燥を実現 ・ナノレベルの汚染を抑制し、高品質な乾燥を実現 ■優れた乾燥性能 ・マランゴニ効果により水跡・乾燥ムラを低減 ■高速処理による生産性向上 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
