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高出力レーザーで使用できる画期的な無偏光ビームスプリッター
スペクトラル オプティックス社(Spectral Optics)TrueSplit は、ビームスプリッター技術における画期的な製品です。ほとんどの無偏光ビームスプリッターは、ハイブリッド金属コーティングまたはエネルギーを吸収してしまうオプティカルセメントを使用しています。TrueSplitは、 ハード誘電体コーティングで接着剤を使用していません。その結果、吸収が3％以下 P-S偏光性能 及び損傷閾値> 20J/cm2を達成する。さらに、ほぼすべてのR / T比（50/50だけでない）と、ほぼすべての波長を実現することができる。 スタンダード ユニットは 2 ½インチ x 2 ½ 有効径 5/8インチ 他のサイズも製作します。
多重反射での利用に効果的！ 光学顕微鏡、垂直落射照明、CCDカメラなどの偏光コントラスト向上させる無偏光ビームスプリッター
広帯域ハイブリッドタイプの無偏光ビームスプリッターは、金属膜と誘電体膜を合わせたハイブリッドの膜構成となります。 有効波長帯は広帯域ながら、P，S偏光それぞれの透過／反射特性の差を6%以内に制御しており、ビームの位置ズレを軽減させる様にビーム偏角（透過偏角）は2分以内での製作が可能です。 所定の波長帯に最適化したARコート (反射防止膜)を施すことで、透過効率を最大化させたり、黒塗り処理を施すことで不要な反射（迷光）を取り除き、グレアやゴースト対策をすることも可能です。
任意波長に最適化されたレーザー光源の制御向けのキューブ型誘電体無偏光ビームスプリッター
特定の波長や出力で発光するレーザー光源の制御向けのキューブ型無偏光ビームスプリッターとなります。 有効波長帯は広帯域ながら、P，S偏光それぞれの透過特性の差を3%以内に制御しており、 ビームの位置ズレを軽減させる様にビーム偏角（透過偏角）は2分以内での製作が可能です。 所定の波長帯に最適化したARコート (反射防止膜)を施すことで、透過効率を最大化させたり、 黒塗り処理を施すことで不要な反射（迷光）を取り除き、グレアやゴースト対策をすることも可能です。 532nmのダイオードレーザー(半導体レーザー)向け、632.8nmのヘリウム-ネオン(He-Ne) 向け、1064nmのネオジウムヤグ(Nd:YAG) 向けなど、任意の制御波長に合わせた設計が可能です。 加工や測定機器などでのライン照射や位置検出、光学処理など、半導体製造装置や自動光学検査装置などの分野で広く利用されています。
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
■低偏光依存性のコーティングを採用 ■高精度の直角プリズムを用いて構成 ■入出射面四面に、透過効率を最大化するBBARコーティングを採用 ■Cマウントバージョンもラインナップ 標準規格品の製品ラインナップとその仕様、販売価格に関しては、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社の公式サイト内の対象製品ページをご覧ください (上記リンクの製品ホームページよりお入りいただけます)。 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。
■高レーザー耐力 ■フェムト秒アプリケーション用に低GDDコーティングを採用 ■卓越した表面品質 ■入射ビームの偏光状態に影響を受けずに分岐 ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
入射偏光状態に依存することなくビームを分離可能。レーザーライン用キューブ型無偏光ビームスプリッター。
TECHSPEC レーザーライン用キューブ型無偏光ビームスプリッターは、入射偏光状態に依存することなく、光を直交二方向に均等に分割することを可能にします。ビーム分割する膜に金属膜と誘電体膜を組み合わせたハイブリッド膜を採用し、s偏光とp偏光入射時の透過率差を3%未満に抑えます。Nd:YAGレーザーやHe-Neレーザーへの使用向けにデザインされ、1064nm、632nm、532nmの3種類のコーティングオプションをラインナップ。プリズムの入出射面に透過効率を高めるためのARコーティングを施し、一面当たり0.25%未満の反射率を実現。ビームの位置ずれを2'以下に抑えるため、アライメントを重要視するアプリケーションへの実装が容易です。 ■s偏光とp偏光入射時の透過率差が3%未満 ■入出射面にR<0.25%を実現するARコーティング採用 ■Nd:YAG と He-Ne レーザー用オプション ※下記より、こちらの製品が掲載されているエドモンド・オプティクス・ジャパンのカタログがダウンロードできます。
