【半導体製造向け】カスタム対応特殊高圧電源
成膜プロセスに最適化！1台からカスタム対応の高圧電源
半導体製造における成膜プロセスでは、高品質な薄膜形成のために、高精度な電源制御が求められます。特に、均一な膜厚と高い再現性を実現するためには、電源の安定性が重要です。不適切な電源は、膜質の低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のカスタム対応特殊高圧電源は、成膜プロセスに最適な仕様で、1台から対応可能です。 【活用シーン】 ・スパッタリング ・CVD（化学気相成長） ・ALD（原子層堆積） 【導入の効果】 ・成膜プロセスの最適化 ・膜質の向上 ・歩留まりの改善
- 企業：株式会社理経
- 価格：応相談
