極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
波長13.5nmで最大限の反射率を達成！極端紫外 (EUV) のビームステアリングや高調波分離用に最適なミラー。
極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、超精密研磨された単結晶シリコン基板に反射コーティングを蒸着した多層膜のブラッグ反射ミラー。表面粗さは3Å未満です。入射角45°のミラーは、s偏光のビームステアリング用に、対する入射角5°のミラーは、非偏光との使用に有益です。コヒーレント回折イメージング (CDI) 、EUV分光、ナノマシニングなどの用途にお使いいただけます。 【特長】 ■13.5nmで最大限の反射率を達成 ■極端紫外のビームステアリングや高調波分離用にデザイン ■入射角5°と45°をラインナップ
- 企業：エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
