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専用タンクへのギ酸の移し変えが不要！お客様がご準備した瓶やタンクをそのままご使用いただけます
『MPXシリーズ』は、MPXシリーズは加熱冷却一体型の独立チャンバー モジュールを複数基設置可能なギ酸還元真空リフロー炉で、大量生産に 適しています。 ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要。 また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが可能。 IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を組み合わせた 当社独自の加熱冷却機構を搭載しています。 【特長】 ■当社独自のガスジェネレーターを搭載、瞬間的な気化を実現 ■IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を 組み合わせた当社独自の加熱冷却機構を搭載 ■加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献 ■専用タンクへのギ酸の移し変えが不要 ■当社独自の分解処理ユニットを搭載、排気中のギ酸を完全に無害化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
当社独自の分解処理ユニットを搭載！排気中のギ酸を完全に無害化します
『モデル：SQ1』は、1チャンバーに加熱冷却機構を備えたコンパクトな バッチタイプのギ酸還元真空リフロー炉で、研究開発や少量生産に 適しています。 ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要。 また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが可能。 専用タンクへのギ酸の移し変えが不要なため、お客様がご準備した瓶や タンクをそのままご使用いただけます。 【特長】 ■当社独自のガスジェネレーターを搭載、瞬間的な気化を実現 ■IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を 組み合わせた当社独自の加熱冷却機構を搭載 ■加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献 ■専用タンクへのギ酸の移し変えが不要 ■当社独自の分解処理ユニットを搭載、排気中のギ酸を完全に無害化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
独自の赤外線加熱ヒーターとウェハステージを採用。ウェハ面内の均一性と高スループットを両立。高品質なはんだバンプ形成・接合に貢献
ウェハバンプ用ギ酸還元真空リフロー炉『MPWシリーズ』は、 ギ酸還元と真空熱処理により、低温でも低ボイドや形状安定性に 優れた高品質なバンプ形成・接合プロセスを実現しています。 独自の赤外線加熱ヒーターと冷却機能を備えたウェハステージにより、 安定した温度制御性と高スループットを両立し、フラックスフリーにより洗浄工程の削減にも貢献。 加熱から冷却までを1台の処理チャンバーで完結し、処理能力に応じて 複数チャンバー構成を選択できるほか、排気されるギ酸ガスは装置内の 分解処理ユニットで無害化し、作業環境の安全性にも配慮しています。 【特長】 ■高い還元作用を持つギ酸を還元ガスとして使用 ■排気されるギ酸ガスを装置内の分解処理機能で無害化 ■加熱から冷却までを1チャンバーで完結し、コンパクトな構成が可能 ■フラックス洗浄工程が不要なため、工程削減に寄与 ■半導体パッケージ、光半導体、パワー半導体関連の現場で活用可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
