【半導体ウェーハ向け】NVC830.3 真空制御シリーズ
コンパクトサイズで高いポンプ性能を実現。ウェーハ製造をサポート。
半導体業界、特にウェーハ製造においては、真空環境の精密な制御が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。ウェーハ表面の異物付着を防ぎ、均一な処理を行うためには、安定した真空度を維持することが不可欠です。真空度が不安定な場合、ウェーハの品質劣化や製造プロセスの遅延につながる可能性があります。NVC830.3シリーズは、閉ループ真空制御により、ウェーハ製造プロセスにおける真空環境を精密に制御し、安定した品質と高い生産性を実現します。 【活用シーン】 ・ウェーハ搬送 ・エッチングプロセス ・成膜プロセス 【導入の効果】 ・真空度の安定化による歩留まり向上 ・プロセスの最適化による生産性向上 ・製品の品質向上
- 企業:株式会社ケーエヌエフ・ジャパン KNF JAPAN
- 価格:10万円 ~ 50万円