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卓上に置いて即実験！小型真空炉として使用可能！ガス系等及び真空装置を接続すればCVD装置の完成
【特徴】 ・ガス系等(オプション)及び真空装置(オプション)を接続すればCVD装置の完成 ・9パターン×9ステップのパソコン通信対応プログラムコントローラーが標準装備(オプションにて16×16プログラム可能) ・専用MPCS(オプション)使用にてパソコンリンク可能 ・MAX1200℃(R：t/c使用時) ・電源はA.C100V 1.3Kw 省エネタイプ ・標準でブルドン真空計付き
研究開発・実験用 高温管状炉 最高温度1600℃ 標準横型、オプションで縦型 大口径炉心管（75~100mm）対応
＜説明＞ ■ チューブ(炉心管）の設計は標準は横置き(水平型）です。 ■ オプションにて、縦型スタンド式、縦横兼用のユニバーサルスタンドがございます。 ■ ユニバーサルススタンドでは、垂直または水平に、または傾斜の位置で動作するように配置することができます。 ■ 傾斜角度の設定や、安定した温度環境を実現することで 温度環境が安定しているため、様々な熱処理プロセスの再現に適しています。 ■ 追加のアクセサリとして、制御雰囲気と真空アプリケーションに適合する気密ガスタイトシールを採用すると、様々な材料試験および不活性熱処理向けに設計されます。 詳しくは、カタログをダウンロードいただくか、お問い合わせください。
