粉体気相成膜装置 - メーカー・企業と製品の一覧

常温粉体ALD装置　全固体電池材料、量子ドット粉末用

ALDでは難しいと言われている低温(常温～100℃)＆大気圧中で粉体成膜が可能！

【特徴】 　・大気圧中で旋回流を利用した粉体成膜 　・用途に応じた膜厚の制御が可能 　・極低温(常温～100℃)での成膜が可能 【応用例】 　・全固体電池用粉体に対するSiO、Al2O3成膜 　・誘電体材料、磁性材料など粉体への成膜 　・量子ドット粉末 【成膜のご相談やテスト成膜可能です】 　クリエイティブコーティングスでは、 　テスト成膜やサンプル作成を承っております。 　お客様のご要望を聞きし、 　適した装置、膜種や膜厚のご提案も可能です。 　まずはお気軽にご相談ください。 ++++++++++++++++++++++++++++++ 時代と環境が求める次世代の気相技術を提供します。 半導体向け極低温高密度プラズマALD装置と 極低温高密度プラズマ粉体ALD成膜装置の 二刀流技術で技術革新に貢献します。