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薄膜ストレス測定器 - List of Manufacturers, Suppliers, Companies and Products | IPROS GMS

薄膜ストレス測定器 Product List

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500℃温度サイクル用薄膜ストレス測定装置　FLX-2320-S

500℃温度サイクル用薄膜ストレス測定装置　FLX-2320-S

500℃温度サイクル用　薄膜ストレス測定装置　FLX-2320-S

室温から500℃までの温度範囲で 非接触・非破壊にて薄膜ストレスを 正確に測定することが可能な測定装置 【特徴】 ○膜付けされた薄膜によって生じる基板の曲率半径の変化量を算出 　曲率半径は、基板上を走査するレーザーの反射角度から計算されるため 　膜付けの前後で曲率半径を測定し、その差を算出することにより 　曲率半径の変化量（R）を求める ○測定チャンバー内の温度を自由に設定できるため 　実際のプロセスおよびIC動作時の環境下での薄膜特性を 　より正確に把握することが可能 ○ガラス基板測定用オプションもご用意 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。

  • 半導体検査/試験装置
  • 薄膜ストレス測定器

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薄膜ストレス測定装置『FLXシリーズ』

薄膜ストレス測定装置『FLXシリーズ』

大学・ラボなどで研究用として多く活用されている薄膜ストレス測定装置

『FLXシリーズ』は、レーザ光線により非接触・非破壊で、薄膜ストレスを 高密度に安定して測定できる装置です。 波長の違う2種類のレーザーを自動選択し、様々な基板、膜種に対応。 半導体産業、半導体・材料メーカーはもとより、近年ではLED、太陽電池、 MEMS、パワーデバイス、FPDといった分野のアプリケーションにも、 モニタリング装置として数多くの使用実績を残しています。 【特長】 ■シンプルで高機能 ■低コスト、省スペース ■測定設定(スキャンポイント・低反射アラーム・弾性係数・基板厚・ 　基板サイズ・応力単位・基板タイプ・レーザー選択) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 光学測定器
  • 薄膜ストレス測定器

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