薄膜回路基板(開発中)
薄膜プロセスで実現する、微細・高精度セラミックス配線板
薄膜プロセスにより、微細パターン形成可能なセラミックス配線基板です。 【特徴】 弊社 めっき技術との組み合わせで 表裏で厚みが異なる回路形成も実現可能です。 例: 表 Cu/Ni/Au 裏 Ti/Pt/Au ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業:株式会社アイン 本社工場
- 価格:応相談
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薄膜プロセスで実現する、微細・高精度セラミックス配線板
薄膜プロセスにより、微細パターン形成可能なセラミックス配線基板です。 【特徴】 弊社 めっき技術との組み合わせで 表裏で厚みが異なる回路形成も実現可能です。 例: 表 Cu/Ni/Au 裏 Ti/Pt/Au ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高速データ通信を支える、高精度薄膜回路基板
通信業界、特に高速データ伝送が求められる分野では、信号の遅延やノイズを最小限に抑えることが重要です。薄膜回路基板は、これらの課題に対し、高密度配線と優れた熱伝導性で応えます。当社の薄膜回路基板は、レーザーダイオード(LD)実装基板や光通信用途に最適です。 【活用シーン】 * 光通信(FTTx、データセンター、モバイル基地局) 【導入の効果】 * 高速データ伝送の安定化 * 信号品質の向上 * 製品の信頼性向上