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薄膜蒸留装置 - メーカー・企業と製品の一覧

薄膜蒸留装置の製品一覧

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薄膜蒸留(ワイプレン)の基礎知識 設備スペック

蒸発を短時間で行う為、原料や不純物の分解がなく、必要な製品が取得可能! 高沸点物の蒸留や反応性の高い物質に最適!

『薄膜蒸留』は、高真空による低温蒸留で、様々な性質の化学物質に対応が可能です。 薄膜蒸留設備を用いて高真空下で低温加熱する事で熱に不安定な物質の蒸留も可能。 高真空化で高温加熱する事で高沸点(常圧沸点500℃)の物質も蒸留が可能になります。 ラボ試験から実機製造まで様々な設備と装置を用いて対応いたします。 また、高反応性・熱分解性物質の精製、シリコーン業界におすすめです。 【特長】 ■熱に不安定な物質 ■融点物質(MAX80℃までの化合物) ■高沸点物質(常圧500℃) ■粘度が高い物質(常温10,000mPa・s) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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薄膜蒸留

熱に弱い化合物の蒸留精製に最適

重合、分解のおそれのモノマーの精製、脱気や脱色、脱臭目的で微量の低沸成分除去や高沸成分除去目的に蒸留します。 また高真空/熱媒加熱が可能なため高沸点化合物の精製にも適しております。

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