金属パーティクル低減ソリューション - メーカー・企業と製品の一覧

【研究開発向け】低メタル、低パーティクル化ソリューション

半導体製造における金属・パーティクル汚染対策に貢献します。

研究開発分野では、実験の再現性が極めて重要であり、不純物の混入は実験結果に大きな影響を与えます。半導体製造プロセスにおいては、金属やパーティクルの混入がデバイスの性能劣化や歩留まり低下につながるため、高度な清浄度が求められます。当社の低メタル、低パーティクル化ソリューションは、これらの課題に対応し、研究開発における信頼性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体材料の研究開発 ・半導体製造プロセスの評価 ・金属汚染、パーティクル汚染が問題となる研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究開発の効率化 ・高品質な半導体製造への貢献