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雰囲気焼成炉 - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

雰囲気焼成炉の製品一覧

1~4 件を表示 / 全 4 件

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静電チャック・ESC向け雰囲気焼成炉

ESC・セラミックス部品の焼成条件出しに。N₂+H₂還元雰囲気と露点制御で、焼成品質の再現性向上に貢献します。

静電チャック(ESC)やセラミックス部品の焼成・還元処理・脱バインダー処理に対応した、雰囲気制御型の高温焼成炉です。 N₂およびN₂+H₂還元雰囲気での運転に対応し、常用1000℃、最高1650℃までの高温処理が可能です。 また、オプションによりWetガス導入・露点制御・Dry/Wet切替にも対応できるため、材料の焼き上がり、緻密化、絶縁性、表面状態、内部電極状態などの条件検討に活用できます。 同一チャンバー内で雰囲気を切り替えながら処理できるため、工程間の移動や外気曝露を抑制し、焼成条件の再現性向上、ばらつき低減、試作評価の効率化に貢献します。 ESC向けの焼成条件出し、N₂+H₂還元処理、露点管理を伴うセラミックス焼成でお困りの場合は、お気軽にご相談ください。

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マルチ雰囲気焼成炉 FT-6800PH

本装置で手軽に加圧・減圧を再現性良く効率の良い運転が可能!クラッチドアー方式で簡単開閉・安全設計!

【特徴】 ・手軽に加圧・減圧を再現性良く効率の良い運転が可能 ・クラッチドアー方式で簡単開閉・安全設計 ・最大加圧:0.9Mpa(第2種圧力容器) ・最大温度:1200℃ ・コンピューター通信制御+PIDプログラムコントロール ・ガス3系統、MFC仕様を標準装備 ※冷却チラー/加圧コンプレッサー/PO2系/記録計はオプション設定

  • 電気炉
  • 加熱装置
  • セラミックス
  • 雰囲気焼成炉

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真空雰囲気焼成の炉選定|脱ガス・酸化抑制・高純度処理に対応

真空度・処理目的に応じて適した電気炉を選定

真空雰囲気焼成では、目的によって必要な到達圧力や炉構成が変わります。 脱ガス・乾燥であれば数Pa~数百Pa程度、酸化抑制であれば真空排気とN₂・Ar置換、高純度処理では10⁻³~10⁻⁴Pa級の高真空が必要になる場合があります。 そのため、単に「真空で焼成したい」という条件だけではなく、処理目的、温度帯、残留O₂、発生ガス量、炉内材質、ヒーター材質、排気系、安全対策まで含めて検討することが重要です。 本資料では、真空雰囲気焼成の目的別に必要な圧力目安、炉種選定、設備仕様に影響する確認ポイントを整理しています。 ■脱ガス・乾燥・酸化抑制の検討に ■高真空・高純度雰囲気での焼成検討に ■メタル炉・マルチ炉・カーボン炉・管状炉の使い分けに ■設備導入前の仕様整理・焼成テスト検討に

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N₂・Ar雰囲気焼成の炉選定|酸化抑制・不活性熱処理に対応

酸化を抑えるためのガス種・置換条件・炉構成を整理

N₂・Ar雰囲気で酸化を抑えた焼成・熱処理を検討していませんか? 酸化を抑えるためには、単に不活性ガスを流すだけでは不十分です。 炉内への酸素・水分の持ち込み、置換手順、ガス流量、露点、残留O₂、サンプル形状、治具材質、冷却中の再酸化まで含めて条件を決める必要があります。 また、N₂は比較的低コストで一般的な酸化抑制に使いやすい一方、材料によっては窒化・反応の可能性があります。 Ar/Heは反応性が低く、高純度処理や高温処理に向きますが、ガスコストや置換量、漏れ込み管理の検討が重要です。 本資料では、N₂・Ar/He雰囲気焼成におけるガス種の使い分け、炉選定、露点・残留O₂・置換手順などの確認項目を整理しています。 ■N₂・Ar雰囲気での酸化抑制に ■不活性雰囲気での焼成・熱処理に ■N₂とAr/Heの使い分け確認に ■露点・残留O₂・置換手順の条件整理に ■設備導入前の焼成テスト・炉種選定に

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