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【歩留まり改善】半導体製造装置内で発生するコンタミを低減するグリス（グリース） 『LOGENEST LAMBDA TKM-03』
高温環境下にて、優れた耐熱性能を示します。 また、真空環境下でも、優れた低アウトガス性能を示します。 実績ございます。 詳細情報はお気軽にお問い合わせください。 ■製品カテゴリ 耐熱グリス（耐熱グリース） フッ素グリス（フッ素グリース） 真空グリス（真空グリース）
歩留まりに貢献、真空環境下の潤滑に特化！半導体製造装置内のコンタミネーション（金属イオンやパーティクルなどの不純物）を低減！
『LOGENEST LAMBDA TKM-03』は、 半導体製造装置などの高真空と耐熱性を有する環境下でも低アウトガスに寄与する特殊グリス（グリース）です。 高真空（high vacuum）10-1Pa～10-5Pa～超高真空（ultra high vacuum）10-5Pa～10-8Pa向けのグリス（グリース）として開発いたしました。 【特長】 ■歩留まりに貢献、真空環境下の潤滑に特化したグリス（グリース） ■アウトガスが発生しにくい高真空・耐熱用グリースで半導体製造装置内の コンタミネーションを低減（防止・対策） ■TML(質量損失比)1.0％未満を大幅に下回る(ASTM E595準拠) ■CVCM(再凝縮物質量比) 0.1％以下を大幅に下回る(ASTM E595準拠) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ■製品カテゴリ 耐熱グリス（耐熱グリース） フッ素グリス（フッ素グリース） 真空グリス（真空グリース）
