高精度真空蒸着装置
360度回転/傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が4倍に
基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。 膜厚依存性や蒸発レート依存性を調べるのに非常に便利な機能
- 企業:株式会社マイクロフェーズ
- 価格:500万円 ~ 1000万円
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360度回転/傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が4倍に
基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。 膜厚依存性や蒸発レート依存性を調べるのに非常に便利な機能