ＡＬＤプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』
高速開閉・高い応答安定性！特殊面間寸法や弁形状、耐腐食性材料ボディなど対応可能
『TDFシリーズ』は、ＡＬＤ（原子層堆積）プロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。 アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し、最高220℃までの 高温流体に使用可能。 工場出荷時に全数Cv値を調整しており、使用時のCv値変動率が少なく 安定したガス流量が得られます。 【特長】 ■高速開閉・高い応答安定性 ＃高速応答 ■高温流体に対応 ■安定したCv値 ■高耐久 ■高純度ガス対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社キッツエスシーティー
- 価格：応相談
