ジャパンクリエイトの製品ラインアップ

当社が取り扱う『CVD装置』をご紹介します。 2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現する 「酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置」をはじめ、「DLCコーティング装置」 「カーボンナノチューブ合成装置」などをラインアップ。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置　特長】 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■広範な膜特性の制御可能 ■豊富な蓄積データ ■トレイ搬送にも対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績（抜粋）】 ■太陽電池用プラズマCVD装置 ■立体物用プラズマCVD装置 ■研究開発用ロードロック式プラズマCVD装置 ■金属容器用プラズマCVD装置 ■医療容器用プラズマCVD装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、 樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施すことで、 内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、 また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。 【特長】 ■必要生産本数により、様々な装置構成のご提案可能 ■3L容器までコーティング可能 ■3L以上の容器に関してもご相談下さい ■PET樹脂以外の樹脂材質に関してもご相談下さい ■金属材質に関してもご相談下さい ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『DLCコーティング装置』は、豊富な蓄積データを有し、優れた膜厚分布 および再現性を実現します。 成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能。 半導体をはじめ、電子部品や光学部品、車載部品などにご利用いただけます。 また、マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作できます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能 ■基板加熱源は水冷型と加熱型から選択可能 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■様々な基板材質に成膜可能 ■広範な膜特性の制御可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置』は、2周波独立印可方式により、 低応力、高硬度、高絶縁性を実現します。 ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減 および生産性を向上。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■広範な膜特性の制御可能 ■豊富な蓄積データ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■チャンバー容積：1m3 ■独自のプラズマ制御方式 ■多段式大量一括処理可能 ■高い汎用性を備えたシンプルな構造 ■様々な製品材質に成膜可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当製品は、当社が得意とするスパッタリング技術を応用し様々な3次元形状の金属、セラミック、樹脂製品に成膜する装置です。 化粧品、電子部品、電池部品、高機能材料開発といった用途に使用可能です。 このほかにも、小型化/大型化、CVD/各種プラズマ処理、バレル/ドラム型など様々な装置のご提案が可能です。 【特長】 ■省スペース ■大容量 ■独自のスパッタカソードを搭載 ■スクリュー型攪拌機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。