【フィルミックス(R)の特長】 ■粒子設計が可能です。（シャープな粒度分布、ナノスケールの微粒化を実現） ■粒子表面にダメージを与えない分散が可能です。 ■2次凝集をほぐし、再凝集、性状の変化を防止します。 【56-L型の特長】 ■処理量180mL/minの連続式分散装置です。 ■バッチ単位（処理量50～90mL）の使用も可能です。 ■分解、組み立てが簡単で洗浄時間を短縮できます。 ■操作、モニターはタッチパネルで行えます。 ■周速、運転時間、処理液温度、負荷電流値、出力電力値が表示されます。 ■各種運転データはUSBメモリで保存が可能です。 ■大型機へのスケールアップも簡単、実績多数あります。 ※詳しくはカタログダウンロードまたはお問い合わせください。

【ラボ・リューション(R)の特長】 ■最高回転数22,000r/min（攪拌部により異なります） ■従来とは異なった領域のデータが取れます。スケールアップのための正確なデータ取りが可能です。 ■フィードバック方式採用、負荷の変動があっても回転数は一定です。 ■豊富な攪拌部オプション対応が可能（微少量バッチ、連続式、真空式） ■SDカードによるデータロギング、温度センサを標準装備。 ※詳細はお問い合わせください。

■特長 ・ホモディスパーと同等の強い分散力とプロペラ形状による強い液流で高粘度処理物における分散、溶解に効果を発揮します。 ・新発想のフローパターンが、効率よく槽全体を流動させます。 ・低粘度から高粘度まで幅広い粘度で使用できます。 ・粉体の引き込みが良くダマをつぶす力も強いため、短時間で粉体を投入することが可能です。 【用途】高粘度の増粘剤溶解など（CMC 2%、カルボマー 2%） ・ホモディスパーと同等の分散力があり混合力も強いため、高粘度処理が可能です。 【用途】高粘度カーボンブラックの分散など（参考粘度～10,000cP） ※ホモディスパーの特長詳細はカタログをご覧ください。

■特長 ・ホモディスパーと同等の強い分散力とプロペラ形状による強い液流で高粘度処理物における分散、溶解に効果を発揮します。 ・新発想のフローパターンが、効率よく槽全体を流動させます。 ・低粘度から高粘度まで幅広い粘度で使用できます。 ・粉体の引き込みが良くダマをつぶす力も強いため、短時間で粉体を投入することが可能です。 【用途】高粘度の増粘剤溶解など（CMC 2%、カルボマー 2%） ・ホモディスパーと同等の分散力があり混合力も強いため、高粘度処理が可能です。 【用途】高粘度カーボンブラックの分散など（参考粘度～10,000cP） ※ホモディスパーの特長詳細はカタログをご覧ください。

【フィルミックス(R)の特長】 ■粒子設計が可能です。（シャープな粒度分布、ナノスケールの微粒化を実現） ■粒子表面にダメージを与えない分散が可能です。 ■2次凝集をほぐし、再凝集、性状の変化を防止します。 【30-L型の特長】 ■わずかなサンプルで乳化、分散試験が可能です。 ■主要接液の材質はセラミックスを採用。 ■シンプルな操作で洗浄性も抜群です。 ■最高22,000r/minでの運転が可能です。 ■各種運転データはSDカードに保存されPCで活用可能です。 ■大型機へのスケールアップも簡単、実績多数あります。 ※詳しくはカタログダウンロードまたはお問い合わせください。

■特長 ・ホモディスパーと同等の強い分散力とプロペラ形状による強い液流で高粘度処理物における分散、溶解に効果を発揮します。 ・新発想のフローパターンが、効率よく槽全体を流動させます。 ・低粘度から高粘度まで幅広い粘度で使用できます。 ・粉体の引き込みが良くダマをつぶす力も強いため、短時間で粉体を投入することが可能です。 【用途】高粘度の増粘剤溶解など（CMC 2%、カルボマー 2%） ・ホモディスパーと同等の分散力があり混合力も強いため、高粘度処理が可能です。 【用途】高粘度カーボンブラックの分散など（参考粘度～10,000cP） ※ホモディスパーの特長詳細はカタログをご覧ください。

【ハイビスディスパーミックスの特長】 ■低速のひねりブレードと高速の攪拌軸を組み合わせた3軸遊星方式の分散、混合、混練機です。 ■容器内をデッドコーナなく分散、混合、混練できます。 ■低粘度から高粘度までハイビスディスパーミックス1台で処理が可能です。 ■容器の移し替えで発生する処理物のロスがなく、洗浄時間も大幅に短縮できコストダウンがはかれます。 【3D-2型の特長】 ■1Lから最大2Lまでの分散、混合、混練が可能です。 ■従来機に比べ、高速軸の取り外しが簡単になりました。 ■容器は加熱冷却が可能なジャケットが付いています。 ■攪拌部の分解がしやすく、短時間で洗浄できます。 ■SDカードによるデータロギングシステム搭載。 ■高速軸の取り外しが簡単にできるようになりました。 ■高速軸を取り外し、ひねりブレードのみの操作も可能です。（オプション）

※CDMプロセス：Continuous Dispersion Mixing Process ＜フィルミックス(R)の利点＞ ◎周速、滞留時間を管理することでスケールアップが可能。 　要素が少ないので再現性も高いです。 ◎約10mL処理のラボ機からMAX1,920L/Hの量産機までラインナップ。 　研究開発から量産機へのスケールアップが容易で、 　量産化への時間短縮につながります。 ◆◇━━━━━━━━━━ 　　テスト受付中！ ━━━━━━━━━━━◇◆ 分散や均一化にお困りの材料がございましたら、ぜひご相談ください。 テストやカタログをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。

【コンビミックス(R)の特長】 ■用途に応じた攪拌が可能な複合機です。 ■乳化、分散から高粘度物の溶解、熱交換、混練まで、幅広く使用できます。 ■攪拌部は処理物により選択ができます。 →乳化ができるホモミクサー、粉の分散ができるホモディスパー、全体の混合や加熱冷却にアンカーミクサーと、3軸を自由に取り付けられます。 ■開放型にするなどバリエーションが豊富で、お客様に合わせた仕様を作ることができます。 ■10,000Lまでスケールアップ実績があります。 ■低粘度のものから高粘度のものまで、幅広く使うことができます。 ■予備分散から最終仕上げまで、1台の設備で可能です。 ■車用触媒スラリーの分散、シーリング材（タンカル＋オイル）の分散、食品原料の分散など多くの実績があります。 ※詳しくはカタログダウンロードまたはお問い合わせください。 ◆◇━━━━━━━━━━━ 　　　テスト受付中！ ━━━━━━━━━━━━◇◆ 溶解、分散や均一化にお困りの材料がございましたら、ぜひお試しください！ ※テストをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。

ホモディスパーは、超高速マルチ攪拌システム「ラボ・リューション(R)」の交換用攪拌部として、または高速乳化分散機「ホモディスパー 2.5型」として使用可能です。 溶解、分散、混合ではホモディスパーより強い剪断力を求められることも出てきますので、ホモミクサー MARK IIやネオミクサーなど攪拌部を交換して使用可能な「ラボ・リューション(R)」が特におすすめです。 【ラボ・リューション(R)の特長】 ■最高回転数22,000r/min（攪拌部により異なります） ■従来とは異なった領域のデータが取れます。スケールアップのための正確なデータ取りが可能です。 ■フィードバック方式採用、負荷の変動があっても回転数は一定です。 ■豊富な攪拌部オプション対応が可能（微少量バッチ、連続式、真空式） ■SDカードによるデータロギング、温度センサを標準装備。 【テスト室、貸出機をご用意しております】 ぜひお試しください！ CNF以外にも低粘度から高粘度まで様々な原材料の微粒化、解砕、乳化、分散、溶解などのお問い合わせも大歓迎です。 混ぜることで困ったことがあれば、お気軽にお問い合わせください。

【ハイビスミックス(R)の特長】 ■2つの攪拌翼が自転、公転することでデッドスペースが少なく処理物を均一に攪拌することができます。 ■低粘度物の混合から高粘度物の混練、脱泡など幅広い処理物に対応できます。 ■処理物や攪拌目的にあわせて攪拌翼の種類を変更することができます。 ■ジャケット付容器を採用することで加熱、冷却が可能になります。 【2P-1型の特長】 ■1Lまでの処理が可能です。 ■AC100V電源で運転可能です。 ■処理物の粘度や比重の変化による負荷変動があってもフィードバック方式により回転数は変化することなく一定を保ちます。 ■処理物に与える攪拌動力をダイレクトに表示（出力計を採用）します。 ■緑、黄、赤のランプによる負荷表示でモータへの負荷を直感的に把握できます。 ■SDカードへのデータロギングシステムを搭載しています。 ■温度センサを搭載しています。 ■タイマー運転機能を搭載しています。

【フィルミックス(R)の特長】 ■均一ミキシング効果でシャープな粒子径分布 ■粒子設計が可能です。（シャープな粒度分布、ナノスケールの微粒化を実現） ■粒子表面にダメージを与えない分散が可能です。 ■2次凝集をほぐし、再凝集、性状の変化を防止します。 ■90mlの電極スラリーが　5～10分で出来て　再現性も高い 【電極スラリーの分散において】 ■均一分散が可能 ■適切な分散条件の検討が可能 ■粘度の再現性が高い ■スラリー流動性、安定性の改善硬化 【56-L型の特長】 ■処理量約11L/hの連続式分散装置です。 ■バッチ単位（処理量50～90mL）の使用も可能です。 ■分解、組み立てが簡単で洗浄時間を短縮できます。 ■操作、モニターはタッチパネルで行えます。 ■周速、運転時間、処理液温度、負荷電流値、出力電力値が表示されます。 ■各種運転データはUSBメモリで保存が可能です。 ■大型機へのスケールアップもしやすく、実績多数あります。

【クリアスタア(R)の特長】 ■優れたCIP機能で装置全体の自動洗浄が可能です。 ■GMPを考慮した設計によりコンタミネーションを防止し、SIPにも対応できます。 ■槽内の均一化を図る槽外循環モードも選択可能、非常に均質な処理液が得られます。 ■真空乳化装置として単品でも、周辺機器をつけてシステムとしてもお使いいただけます。 【5型の特長】 ■5Lまでの処理が可能です ■恒温槽、真空/加圧ユニットを内蔵 ■タッチパネル操作 ■USBデータロギング装備 ■分解洗浄しやすい構造 ※詳しくはカタログダウンロードまたはお問い合わせください。