【仕様】 ■動作範囲 ・X1, X2-axis：500mm ・θ-axis：340° ・Z-axis：300mm or 450mm ■最大動作速度 ・X1, X2-axis：1000mm/sec ・θ-axis：200°/sec ・Z-axis：250mm/sec ■繰返し位置精度：XYZ direction ±0.1mm each ■可搬重量：1.0kg/arm(Including E/E, E/E-base, Wafer) ■本体質量：32kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■動作範囲 ・X1, X2-axis：500mm ・θ-axis：340° ・Z-axis：300mm or 450mm ■最大動作速度 ・X1, X2-axis：1000mm/sec ・θ-axis：200°/sec ・Z-axis：250mm/sec ■繰返し位置精度：XYZ direction ±0.1mm each ■可搬重量：4.0kg/arm(Including E/E, E/E-base, Wafer) ■本体質量：50kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■動作範囲 ・X1, X2-axis（前後）：590mm ・θ-axis（旋回）：332° ・Z-axis（昇降）：310-703.8mm ・Y-axis（左右）：±767.5mm ・A-axis（左右の傾き補正）：±2° ■最大動作速度 ・X1, X2-axis：1600mm/sec ・θ-axis：540°/sec ・Z-axis：1500mm/sec ・Y-axis：1500mm/sec ■繰返し位置精度 ・XθY directions（composite）: ±0.1mm ・ Z direction: ±0.1mm ■可搬質量：0.5kg/arm (Including E/E, E/E-base, Wafer） ■本体質量：74kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■動作範囲 ・X, A-axis：500mm ・θ-axis：340° ・Z-axis：300mm ■最大動作速度 ・X1,A-axis：1800mm/sec ・θ-axis：360°/sec ・Z-axis：500mm/sec ■繰返し位置精度：XYZ direction ±0.1mm each ■可搬質量：0.5kg/arm (including E/E, E/E-base, Wafer） ■本体質量：32kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■動作範囲 ・X, A-axis：500mm ・θ-axis：340° ・Z-axis：300mm ・R-axis：180° ■最大動作速度 ・X, A-axis：800mm/sec ・θ-axis：130°/sec ・Z-axis：200mm/sec ・R-axis：150°/sec ■繰返し位置精度： ・XYZ方向 各±0.1mm ・R方向 ±0.5° ■可搬重量：1.5kg/arm(Including E/E, E/E-base, Wafer) ■本体質量：40kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■適用ウエハサイズ：300mm ■繰返し位置精度：高精細モード　　XY: ±0.05mm θ: ±0.075° ノーマルモード　XY: ±0.2mm θ: ±0.1° ■アライメント時間 ・高精細モード　：Average 7.5sec. ・ノーマルモード：Average 3.5sec. ■本体質量：7kg ■必要諸源：電源　24 VDC 3A ■設置環境 ・温度　0-40℃ ・湿度　70% or less ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■繰返し位置精度：XY方向：各±0.1mm　θ方向：±0.2° ■アライメント時間：1.8sec. ※ 50mmウエハの場合、アライメント時間は2.5sec.です。■本体質量：8kg ■必要諸源 　・真空：-80kPaG or less, 10NL/min. 　・電源：24 VDC 3A ■設置環境 ・温度：15-25℃ ・湿度：60% or less (No condensation) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■動作範囲 ・X1, X2-axis：620mm ・θ-axis：346° ・Z-axis：50mm ■最大動作速度 ・X1, X2-axis：380°/sec ・θ-axis：300°/sec ・Z-axis：185mm/sec ■繰返し位置精度 ・XYZ direction ±0.1mm each ■可搬質量：2.0kg (Including E/E, E/E-base, Wafer) ■本体質量：160kg ■設置環境 ・温度　5-40℃(本体)/5-80℃(アーム) ・湿度　20-70%, No condensation ・圧力　Atmospheric pressure ～ 10-6Pa ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

■動作範囲 ・X-axis　850mm ・θ-axis　Endless ・Z-axis　- ■動作時間 ・X-axis　2.0sec / 850mm ・θ-axis　2.5sec / 180° ・Z-axis　　- ■繰返し位置精度 ・XY direction　φ0.02mm(3σ) ・Ｚ direction - ■可搬質量：1.0kg (Including E/E, E/E-base, Wafer) ■本体質量：29kg ■設置環境 ・温度　5-40℃(本体)/5-80℃(アーム) ・湿度　20-70%, No condensation ・圧力　Atmospheric pressure ～ 10-7Pa 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■動作範囲 　・X-axis：750mm 　・θ-axis：340° 　・Z-axis： 22mm ■最大動作速度 ・X-axis： 62°/sec ・θ-axis：192°/sec ・Z-axis：121mm/sec ■繰返し位置精度：XYZ direction ±0.1mm each ■可搬重量：4kg（Including E/E, E/E-base, Wafer） ■本体質量：44kg ■設置環境 ・温度　10-40℃ (Atmosphere side) / 0-80℃ (Vacuum Seal Unit) ・湿度　20-70%, No condensation ・圧力　Atmospheric pressure ～ 10-6Pa ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■動作範囲 　・X1,X2-axis：670mm 　・θ-axis：330° 　・Z-axis：50mm ■最大動作速度 ・X1,X2-axis：120°/sec ・θ-axis：100°/sec ・Z-axis：25mm/sec ■可搬重量：2kg（Including E/E, E/E-base, Wafer） ■本体質量：85kg ■設置環境 ・温度　15-40℃ (Atmosphere side) 0-80℃ (Vacuum Seal Unit) ・湿度　20-70%, No condensation ・圧力　Atmospheric pressure ～ 10-6Pa ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

【仕様】 ■動作範囲 ・X-axis：720mm ・θ-axis：340° ・Z-axis：20mm ■最大動作速度 ・X-axis：250°/sec ・θ-axis：220°/sec ・Z-axis：121mm/sec ■繰返し位置精度：XYZ direction ±0.1mm each ■可搬質量：0.7kg (Including E/E, E/E-base, Wafer) ■本体質量：35kg ■設置環境 ・温度　10-40℃ (Atmosphere side) / 0-80℃ (Vacuum Seal Unit) ・湿度　20-70%, No condensation ・圧力　Atmospheric pressure ～ 10-6Pa ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。