共立エレックスの製品・サービス一覧

製品ラインアップ ■セラミックス基板 ・アルミナセラミックス基板 ・ジルコニアセラミックス基板 ■印刷回路セラミックス基板 ・厚膜印刷回路セラミックス基板 ・ファイン印刷回路セラミックス基板 ■セラミックス基板応用商品 ・LEDパッケージ用セラミックス材料 ・全固体電池用セラミックス材料 ・セラミックス陶板工芸用セラミックス ■機能セラミックス材料 ・高反射セラミックス材料 ・多孔質アルミナセラミックス基板（セッター） ・粉末成形セラミックス

当社は、『5V-A不燃シート』の不燃性試験に関する動画を公開しております。 当製品は、UL94規格に基づく燃焼性試験で難燃グレード5V-Aを クリアした、自己消火性を有する不燃シートです。 他社品、初期開発品と比較し分かり易い内容となっておりますので 是非ご覧ください。 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

『5V-A不燃シート』は、UL94規格に基づく燃焼性試験で 難燃グレード5V-Aをクリアした、自己消火性を有する不燃シートです。 硬さや耐熱性、強度などのご要望に合わせてシートを作成可能。 約200mmの幅で10m程度の少量試作にも対応いたします。 【活用例】 ◎ハイパワー半導体の回路基板設計に ◎バッテリーモジュールの発火・延焼防止に ◎高圧電源ケーブルの延焼防止に ※詳しくはお問い合わせください。

新開発製品の「高難燃・高熱伝導樹脂シート」は、UL94規格「5VAグレード」の高い難燃性の不燃シートです また、絶縁性を維持しながら高熱伝導性（4.5W/m・K）も備えている熱伝導樹脂シートとしても利用できます。 【特徴】 　・高難燃性：UL94規格「5VAグレード」 　・高熱伝導性：4.5W/m・K 　・ハロゲン系難燃剤を含んでいないので、燃焼時の有毒な「塩素系ガスの発生無し」 　・サンプル提供サイズ　～190ｍｍ×190ｍｍ（MAX） 【活用例】 　◎高圧電源ケーブルの延焼防止に 　◎バッテリーモジュールの熱暴走による発火時の延焼抑止 　◎パワー半導体モジュールの放熱性能改善 ※詳しくはお問い合わせください。

微小凸形状加工を施した「セッター用セラミックス敷板」 焼成プロセスの生産効率や製造品質について、セッターに用いるセラミックス敷板に対するご要望を多くお聞きします。例えば、「脱媒性能を改善して欲しい」「焼成対象品(ワーク)の収縮に対して引っ掛かりを抑制したい」「焼成後のワークが貼り付いてしまう！」など多岐にわたっています。 この「微小凸形状加工を施した「セッター用セラミックス敷板」を用いることで、焼成プロセスの生産効率・製造品質の改善に寄与致します。また従来、セッター上に「敷粉」を敷いて対策していたお客様からも「作業性の改善」だけでなく、「真空焼成炉の配管詰まりが改善した」などのお声もお聞きしています。 焼成プロセスでこのようなお困り事をお持ちのユーザー様は、是非一度、お声掛けください。

■背景 ますますニーズが多様化する焼成プロセスを活用しているお客様に対して、多孔質セラミックスの特徴を活かすと共に、焼成したセラミックス基板への印刷加工など社内一貫工程を活用することで「焼成セッター」に最適化したセラミックス基板を開発しました。 「一度にもっと多く焼成したい！」という方におすすめ ■使い方 焼成プロセスで用いられる「バッチ式真空焼成炉」での生産効率の改善は大きな課題です。「一度の焼成プロセスに多可能な限り多くのワークを入れたい！」というご相談を多くお聞きします。 当社が培ってきた「薄板セラミックス基板の製造技術」を活かすことで、セッター段数を増やすことが可能です。それにより「一度のプロセスで焼成できるワーク数を増やす」ことが可能になります。 図示したような焼成炉にスペース制約に対してがある場合、従来のセラミックス敷板(7mm厚)を「当社の焼成セッター用セラミックス基板(1mm厚)」に変えることで、棚板段数を１６段から１８段に増やすことが可能となり、１２％も焼成積載効率が改善されます。 また、同じワーク数でも「より厚いワーク」が焼成可能となり、焼成炉の幅広い活用が可能となります。

印刷膜材質 　■銀　　　■銀白金　　■銀パラジウム　■白金　　　■銅　　　■金　　　■ルテニウム　■ガラス（絶縁） 印刷基板へのメッキ表面処理 　　・電解メッキ、無電解メッキのいずれにも対応可能 メッキ種類 　■ニッケル　　　■パラジウム　　■金　　　　　■銀　　　　　■銅　　　　　■その他

印刷膜材質 ■銀　　　■銀白金　　■銀パラジウム　■白金　　　■銅　　　■金　　　■ルテニウム　■ガラス（絶縁）

積層加工(ラミネート加工)によりセラミックス基板の厚板化が実現できます。 上記写真は、１ｍｍ厚に塗工成形したグリーンシートを２枚積層させた後、焼成加工して作られた２ｍｍ厚のセラミックス基板です。

強靭性を活かした「曲がるセラミックス基板」 曲がるジルコニア 超極薄ジルコニアセラミックス基板 ジルコニアは強い強靭性を持っています。 当社の薄板セラミックス基板製造技術と組合せることで「曲がるセラミックス基板」を実現しました。 超極薄セラミックス基板(厚み:50μm)は透過性もあり、基板の薄層化を実現実現するなど「次世代セラミックス基板」としての可能性を有しています。

次世代蓄電池として期待される全固体電池用セラミックス材料 全固体電池は次世代蓄電池として、モバイル機器から電気自動車まで幅広い分野での応用が期待されています。 当社では、産総研*との共同研究により、全固体電池用セラミックス材料を製品化しました。 　＊国立研究開発法人 産業技術総合研究所 （特許第５９０７５７１号、特許第６３２６６９９号のライセンスを受けています） NASICON型の結晶構造を有する「LATP(Li1.3Al0.3Ti1.7(PO4)3)主体の電解質基板」であり、イオン伝導率は~7×10-4S/cmに相当します。

多孔質セラミックスとは、内部に無数の気孔(ポーラス)があるセラミックスです。 ポーラスがあることで熱伝導率が低くなり、また軽量な素材になります。 通気度が極めて高いことから焼成工程のセッターとして用いることで、優れた焼成品質が得られます。 フェライト基板などのセラミックス製品や金属粉末射出成型(MIM)製品の焼成工程における「脱バインダーの促進」や「多段積みによる焼成効率改善」などで当社の多孔質セラミックス基板が多くの実績を有しています。

ＬＥＤ技術の進歩に応えるセラミックスパッケージ技術 発光素子であるＬＥＤは照明用途に限らず、家電・情報機器や医療機器など幅広い分野での普及が進むととともに、高輝度化や短波長化が急速に進んでいます。それに伴い、ＬＥＤパッケージ部材にも様々なご要望が求められています。 当社では、セラミックス基板製造から印刷回路形成までの一貫製造プロセスを活かして、「多様なＬＥＤパッケージへのお客様ニーズ」にお応えすべく開発を進めています。ＬＥＤ素子の様々な用途展開に向けた「多様なラインナップ」や、急速に進むＬＥＤのハイパワー化に向けた「放熱(散熱)対策技術」などを準備しております。 様々な応用可能性に応えられる技術開発を進めておりますので、ご相談をお待ちしています。

当社では５０年以上のセラミックス製品の製造経験を活かして、美術工芸品として使用される陶板画やモニュメントの製造・販売を行なっています。 写真・イラストなどをセラミックス陶板に特殊な方法で焼付けます。 色褪せなどの心配がないことから、屋外設置にも適したセラミックス材料による美術工芸品を作成いたします。 陶板写真(各種記念写真,ペット写真)・記念陶板・陶板案内表示・陶板タイルなど、贈答用や記念品にも最適です。 お気軽にご相談下さい。

高反射率特性を持つセラミックス基板 アルミナセラミックスを基本素材とする高反射率セラミックス基板をご提供可能です。 製造過程において特殊な添加剤やコーティングを用いていないので、後工程プロセスでのコンタミの心配がありません。従来からのアルミナ基板などの設備が共有できるため、既存品同等の大量生産へ対応が可能です。 また既存原材料群で構成されている為、環境規制物質の含有がありません。

特に、高輝度ＬＥＤにおいては樹脂パッケージ仕様では耐熱対策が困難となっており、散熱･耐熱性対策としてアルミナセラミックス素材は欠かせないものになっています。 また近年の紫外線ＬＥＤニーズの高まりなどによりセラミックスパッケージへの関心は高まっています。 当社では、独自技術による耐熱特性に優れたセラミックスパッケージ基板を提供しております。 当社独自技術による「散熱(放熱)性能の改善技術」 ＬＥＤ素子の高輝度化(高出力化)に伴いパッケージング材料の耐熱性の重要性と共に、散熱(放熱)特性の要求が非常に高まっています。 散熱(放熱)対策について「散熱特性に優れている窒化アルミ基材に対して、汎用的なアルミナセラミックス基材を用いた散熱性の改善」へのご相談が多く寄せられています。 当社では独自の印刷回路技術を応用して、アルミナセラミックス基板にスルーホール加工し、スルーホール部分に「特殊銀系材料」を充填することで、一般的なアルミナセラニックス基板よりも高い散熱効果を実現しています。

近年、エレクトロニクス機器の小型化・軽量化・高性能化か進むにつれて、基板回路パッケージも高実装・高密度の要求が年々高まっています。こうした要求に答えるため、当社の厚膜印刷基板（スルーホール）の技術を活かし更なる繊細パターンの印刷技術を展開しています。

当社は、高機能セラミックス基板の専業メーカーです。 東京ビッグサイトにて開催される『ネプコン ジャパン』の "さが半導体フォーラム(共同出展)"に出展予定です。 「アルミナ・ジルコニア(セラミック基板)」などの製品を 展示予定。皆様のご来場、心よりお待ちしております。 【展示会概要】 ■開催日時：2026年1月21日(水)～1月23日(金) ■会場：東京ビッグサイト ■ブース番号：E23-42(東6ホール) ■最寄り駅 ・りんかい線 「国際展示場」駅下車 徒歩約7分 ・ゆりかもめ 「東京ビッグサイト」駅下車 徒歩約3分 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。