【特徴】 ○既存製造ラインにて使用可能なサブトラ用３μ膜厚ポジ型DFR ○主要成分特許登録済み ○ラミネーション時にボイド及びシワが発生しない →ロールラミネーターに使用可能 ○5μスペース(狭ギャップ)にエッチング液が拡散 →エッチング解像力が向上 ○1％炭酸ソーダ現像 ／スカム発生ゼロ →現在のネガタイプ DFR の現像ラインを変更せずに使用可能 →露光部が完全溶解するためスカムフリー ○レジスト破片発生ゼロ剥離 →0.5 ～1％NaOHにて完全溶解するため、レジスト破片発生ゼロ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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