本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法とスプレー法の比較表 ・当社の受託加工サービスについて ［当社 カツラヤマテクノロジーについて］ フッ素コートによる撥水・撥油・離型・防汚処理の受託加工・材料販売を行っており、 フッ素材料を使用した真空蒸着法とスプレー法の受託加工サービスを行っております。 また、独自技術である、有機薄膜処理技術「ナノス（NANOS）」は、 撥水性・撥油性・防汚性等の新たな機能を付与することできます。 ★本資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• 表面処理受託サービス

ガラス・光学製品向け防汚コーティング剤「NB05」はソーダガラスやアルミノシリケートガラスや光学製品向けフィルムなどの表面に処理を行うことで高い耐久性を持つフッ素による機能膜を形成させることが出来ます。 ●NB05特徴 ・優れた撥水性・撥油性：純水接触角110°以上、オレイン酸78° ・滑り性の向上：動摩擦係数 0.04 ・膜厚が10nm以下と非常に薄い ・無色透明の膜で製品の光学特性への影響が小さい ・国内外の大手メーカーが認めた高い耐久性 　(スチールウールの摺動試験　1kg/cm2  9000回でガラス上の接触角100°以上) ・スプレー、浸漬、手塗り、スピンコートなど様々な方法での処理で利用可能 　※スプレー法についてはご希望される方に専用スプレーガン・塗布条件を提供致します

• 化学薬品

当社はフッ素コーティングの受託加工を行っています。 複数の処理方法が存在する「フッ素コーティング」について、それぞれの手法の特徴をまとめた資料を制作いたしました。 手塗り・浸漬処理・真空蒸着法・スプレー法の4種類のメリットや注意点をそれぞれ解説しています。 【『フッ素コーティング 正しいコーティング手法の選び方』掲載内容】 ■フッ素コーティングとは ■コーティング方法別　メリット＆デメリット ■各コーティング手法の説明 ■当社コーティングのおすすめポイント ■撥水性・防汚性の実験 ■スプレー法・真空蒸着法の採用事例 ※「ダウンロード」ボタンからご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• 加工受託

カツラヤマテクノロジーの真空蒸着処理では膜厚10～20nmのフッ素薄膜を 金属やガラスに処理を行うことで基材表面に撥水性、撥油性、防汚性、離型性などの効果を付与させます。 効果確認用の小規模試作から実際の製品などで使用する為の量産までお受けすることが出来ます。 [特徴] ・処理する膜厚が10～20nmと非常に薄い膜となっており、金型などへ処理する場合に基材の寸法への影響を与えにくい ・深さ方向にはアスペクト比5まで対応(穴径1に対して深さ5) ・基材サイズ最大700mm□まで対応 ・無色透明の薄膜で光学部品にも光学影響を抑えることが出来る [主な採用実績] ・半導体封止用金型の離型処理 ・導光板、偏光板用Ni電鋳スタンパ金型への離型処理 ・業務用複写機の読み取り用ガラスへの防汚処理 ・業務用インクジェットプリンターヘッドへの撥インク処理 ・半導体研磨装置部品の防汚処理(スラリーの付着防止)

• 鉄鋼

スプレー材料を検討したいがスプレー装置が無くて塗布することが出来ない スプレー装置を試したがコーティング材料と塗布条件をマッチング出来ない そんなお悩みありませんか？ カツラヤマテクノロジーは材料・装置の自社開発で培ったノウハウを元に材料の塗布条件を最適化し 塗布条件の確立・サンプル作成・塗布条件のフィードバックを行います。 【塗布実績】 ・AFコート(防汚コート) ・ARコート(反射防止コート) ・AGコート(防眩コート) ・ガラスコート ・親水コート 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

• その他高分子材料

成型困難な金型・樹脂素材の離型性でこんなお困りごとありませんか？ 「樹脂の抜け性が悪い…」 「離型膜の厚みで寸法影響がでてしまう…」 「金型のパターンが細かく既存の離型処理ができない…」など 有機ナノ薄膜処理技術「NANOS」×スプレー処理もしくは蒸着処理で解決できるかもしれません！撥水性・撥油性・耐指紋性・滑り性も抜群です。 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談) ※詳しくはPDFダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他高分子材料

「有機ナノ薄膜表面処理技術(NANOS)」とは、ステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与出来る技術です。 『有機ナノ薄膜表面処理技術』の技術資料では、素材別の摩耗試験データ分析からその特性、採用実績・効果など図や数式を使って分かりやすく解説！ 【こんなお困りごとありませんか？】 ■表面処理温度が100℃以上と高く、微細加工に合わない ■印刷性を保つためのメンテナンスが大変 ■光学部品に影響が出てしまう…など 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談) ※技術資料をご希望の方はダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他高分子材料

『真空蒸着技術』とは、薄膜原料を真空中で加熱・蒸発させ、基材表面で凝縮・固化させることにより、薄膜を形成する技術です。凹凸のある製品に適した表面処理技術です。 カツラヤマテクノロジーでは、フッ素系高分子を原料とし、プロセス全体の最高温度が50℃と低温で処理できることから基材への熱影響を抑えた表面処理を受託加工で行うことが可能。特殊技術で生産性の向上と薄膜の均一性を実現！用途に応じて膜厚を５nｍ～４５nｍまでの選択も。 進呈中の『NANOS』技術データでは、性能や応用例、表面処理の比較などを図や表を使って分かりやすく解説！薄膜が数ナノメートルから数十ナノメートルと極めて薄く、かつ処理温度も低いことから高精度を要求される微細加工分野への適用も可能です。 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談) ※技術データをご希望の方はダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他高分子材料

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【NANOSの特長】 ◆優れた撥水性・撥油性 　・純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ◆薄い膜厚をコントロール可能 　・スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　・真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ◆光学特性への影響が少ない（無色・透明） ◆低温プロセス：プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さい 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

• 合金

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談) ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 表面処理受託サービス

カツラヤマテクノロジーの『NANOSスプレーコート』は真空蒸着のプロセスをベースに開発したカツラヤマテクノロジー独自のスプレー方式です。 スマートフォンやタブレット・カーナビなどタッチパネルのカバーガラスに耐指紋性（AF・AS）や滑り性（摺動性）を向上させるフッ素コートを低コスト・高タクトで処理を行うことが可能となります。 一般的なスプレー処理法と異なり、スプレー後の溶媒成分の乾燥やレベリングといった待機時間を必要としないため、装置稼働ロスを抑えることも可能です。 【特長】 ■弊社スプレー材料の性能・品質・効率の3要素を最大限に引き出せる専用 スプレー装置を販売 ■ご採用までの検討段階（試作・評価）でユーザー様のニーズにそってプロセス条件を最適化 ■自社での受託加工でのノウハウを元にプロセス全体のサポートが可能 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他高分子材料

カツラヤマテクノロジーの『蒸着処理』は、フッ素薄膜原料を真空中で加熱・蒸発 させ、基材表面で凝縮・固化させることにより、薄膜を形成する技術です。 カツラヤマテクノロジーでは、フッ素系高分子を原料とし、プロセス全体の 最高温度が50℃と低温で処理できることから基材への熱影響を抑えた表面処 理を行うことが可能となります。 【特長】 ■低温処理 ■真空蒸着処理 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• その他高分子材料

粘着テープや両面テープを加工（切断）していて、こんなお困りごとは有りませんか。 ■スリット刃に粘着テープの糊が付着して除去するのに手間がかかる ■離型剤としてシリコンを使用しているが、ユーザーによってはシリコンを使用出来ない。 ■フッ素コートを使いたいが膜厚が厚くて薄い刃先に使用出来ない。 有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」なら、離型性の高い膜厚10nm以下のフッ素薄膜を刃物に処理することが出来る為、上記のような課題をクリアすることが出来ます。 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談) ★1点からでもテスト可能ですので、お気軽にお問合せ下さい。 ※NANOSの詳細は、カタログをダウンロードしてご覧ください。

• 表面処理受託サービス

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：スキャナ用コンタクトガラス ■目的：汚れ付着防止、メンテナンスの向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

• 表面処理受託サービス

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：光学部品（レンズ、カバーガラスなど） ■目的：撥水性付与、汚れ（耐指紋）付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

• 鉄鋼

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：タッチパネル ■目的：汚れ（耐指紋）付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

• 表面処理受託サービス

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：はんだ印刷用メタルマスク ■目的：印刷性向上、メンテナンスの軽減 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

• 表面処理受託サービス

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：インクジェットヘッド ■目的：印刷性向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

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有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：光学部品用金型 ■目的：離型性向上 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

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有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：スタンパ金型 ■目的：離型性向上、タクトタイムの短縮 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

• 表面処理受託サービス

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：ナノインプリント用金型 ■目的：離型性向上、微細形状への追従性を高める 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

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有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：転写プロセス用治具（凹版など） ■目的：転写性向上（離型剤レス） 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

• 表面処理受託サービス

有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：フォトマスク ■目的：レジストの付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

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有機ナノ薄膜処理技術　「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：AFM、STM用プローブ ■目的：異物の付着防止 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 　純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 　スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 　真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)

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