当社では、低損失デバイスSiCを採用した高周波電源を取り扱っています。 スイッチング素子の発熱を抑え、高温環境下での連続仕様および 耐久性を大幅に向上します。 冷却水が不要になり(インバータ部)、ユーティリティコストを節減します。 SiC汎用型高周波電源「HPIシリーズ」と、SiC通電加熱用高周波電源 「MEIシリーズ」をラインアップしています。 【特長】 ■スイッチング効率2倍 ■空冷でインフラ費用を節減 ■ランニングコスト節減 ■素子の抵抗損失が減少 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 電源
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『CDシリーズ』は、卓上サイズでコンパクト設計な小型高周波電源です。 空冷にて安定的に作動。各種安全保護機能が付属しております。 また、19インチラックに搭載可能なほか、オプションで運転状態の 遠隔監視に対応致します。 【仕様・規格】 ■小型高周波電源：2kW、5kW　約1～30kHxz ■共振部：他励式共振回路 ■接続ケーブル：電源部と共振部接続、高周波平行ケーブル5m ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 電源
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『VTシリーズ』は、トランジスタインバータより高い周波数に 対応する真空管式高周波電源です。 高い周波数を実現し、大きな負荷変動を伴うFZ法に欠かせない電源となります。 当社は幅広い周波数と出力域の真空管式高周波電源を製造しています。 また、シミュレーションにて加熱仕様をご提案いたします。 【特長】 ■大きく負荷が変動するワークも対応可能 ■1台の電源で多種多少なワークに対応 ■高い周波数帯で局所加熱が可能 ■広範囲な発振周波数に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 電源
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当社では、ターゲット材、セラミックス材、磁性材、電子材料等の 各種焼結体作製用の『ホットプレス装置』を取り扱っています。 プレス圧力10～10000kNクラスまで可能。 加熱方式は、抵抗加熱または高周波誘導加熱です。 【特長】 ■プレス圧力10～10000kNクラスまで可能 ■真空雰囲気、不活性雰囲気、大気雰囲気 ■抵抗加熱、誘導加熱 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他加工機械

『真空誘導溶解炉』は、導電ルツボ及び非導電性ルツボの 両方の加熱が可能です。 駆動系及び炉内雰囲気を精密に制御いたします。 また、傾動速度、傾動角度の自動制御が可能なほか、 小型10kg～大型300kgまで可能です。 【仕様】 ■加熱方式：高周波誘導加熱 ■高周波誘導発振機：80kW ■加熱温度：最高1700℃ ■溶解材料：Fe、Co、Au、Ag、Cu、Ni、Ti、各種合金等 ■ルツボ：カーボングラファイト、アルミナ、マグネシア等 ■充填量：10～300kg ■炉内雰囲気：真空又は不活性ガス雰囲気 ■真空排気装置：油回転ポンプ, メカニカルブースターポンプ、油拡散ポンプ ■到達真空度：1.3×10(-3) Pa以下(空炉、常温) ■制御盤：タッチパネル、シーケンサー制御(加熱、雰囲気、傾動) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 工業炉

『高周波誘導電線加熱装置』は、非接触で電線が加熱できる装置です。 従来の誘導加熱とは異なりプーリ等に接触せず、ワークコイルの中に電線を 通す事により、電線がワークコイルに流れる高周波電流で誘導加熱されます。 周波数を可変する事により、電線の表面から深部までの加熱深さが選定できます。 また、お使いの電線加熱装置のメンテナンス・修理にも対応しております。 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■非接触で電線が加熱される ■周波数を可変することで電線の加熱深さが選定できる ■様々な電線加熱を提供 ■新規相談・従来機のリニューアル・お試し実験対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加熱装置

『TR-80001』は、インバータ素子にIGBTを用いたコンパクトで高効率な トランジスタインバータです。 従来のインバータに比べて体積比は5分の1以下、重量比は3分の1以下の 省フロアスペース化を図りました。 インバータ変換効率が高く、所要電源、冷却水等ランニングコストの低減に 大きく貢献します。 【特長】 ■ニーズに合わせたオーダーメイド製作 ■発振周波数：100Hz～30kHz対応 ■ランニングコストの低減、安全性に優れた設計 ■高周波出力は0～100%でリニアに制御が可能 ■電源変動±10%に対して、±0.05%以内で出力変動を抑える ■負荷変動に対して周波数を自動で追従 ※詳しくはPDF資料もしくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• インバータ

株式会社第一機電では、受託実験を承っており、高周波誘導加熱電源を使用し、 カーボン坩堝で不活性雰囲気中3000℃以上の加熱実験が可能です。 高周波誘導加熱により、3000℃/hの昇温レートを実現し再現性・安定性の良い パワー制御を採用しております。 また2色放射温度計により正確な温度測定が可能です。 【実験仕様】 ■加熱温度：最高3000℃ ■雰囲気：真空排気後、大気圧による不活性ガス雰囲気 ■推奨るつぼ：カーボン、内径φ50(t2)xH48mm ■ホットゾーン：カーボン成形断熱材 ■加熱方式：高周波誘導加熱 ■昇温レート：1～3000℃/h ※詳しくはPDF資料もしくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他受託サービス

『MRSシリーズ』は、高周波加熱とパルス通電加熱を併用して高温域まで 数分で加熱させた後に、サーボプレス制御のパンチにより均一な焼結が可能なプラズマ焼結装置です。 当社独自開発の連続焼結機能を搭載したことにより高効率化を実現し、大量生産を目的とした生産用途や、パラメーターを変更させながらの連続焼結が可能なため、研究用途でも実験短縮に貢献。 量産やパラメータを個々に変化させて連続的な試験に適しております、連続式プラズマ焼結装置『MRS-02550M』とホットプレスに比べて焼結時間が短く小型なバッチ式プラズマ焼結装置『MRS-10020B』をご提案いたします。 【特長】 ■当社独自開発の連続焼結機能搭載 ■高周波誘導加熱を併用したハイブリッド加熱方式 ■高性能サーボプレスにより精密な加圧制御を実現 ■ランニングコスト節減 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 工業炉