サンインスツルメントの製品・サービス一覧

◆IBS（Ion-Beam Sputtering）コートにより長寿命、高い損傷閾値、低吸収、高面精度、厳密なスペクトル要求を実現。 ◆ミラーやレンズからビームスプリッタ、マルチ波長、偏波ポラライザで様々なカスタムニーズに対応。 ・損傷閾値 　>160J/cm2, 1064nm, 10ns, 100Hz 　>30kW/cm (>900kW/cm2), 1070nm CW 　>1.0J/cm2, 1030nm, 500fs, 150kHz ・超高反射ミラー　R >99.998% ・超高精度薄膜ポラライザ　Tp/Ts ratio >10000:1 ・超低吸収コーティング　<1ppm ・対応波長レンジ　220nm - 5000nm

当社は、PLX社の『中空レトロリフレクタ』を取り扱っています。 ポジションや動き、傾きなどの影響を受けにくい自己補正型ミラー「ハード マウント中空レトロリフレクタ」をはじめ、「超高安定ハードマウントレトロ リフレクタ」や「頑強・高耐久ボールマウント レトロリフレクタ」などを ラインアップ。 光技術の新世代の仕様に応えるため、PLXはLIDARやフリースペース光学系 などのサブシステムやシステムインテグレーションを提供しています。 【ラインアップ（抜粋）】 ■ハードマウント中空レトロリフレクタ ■超高安定ハードマウントレトロリフレクタ ■ロープロファイルレトロリフレクタ ■ステンレススチールボールマウント レトロリフレクタ ■頑強・高耐久ボールマウント レトロリフレクタ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

当社は、藤アイデック社製の高機能真空窓を取り扱っています。 独自のシール技術により熱による歪みが発生しないので、さまざまな用途に 安心して使用可能。 （独）日本原子力研究開発機構と共同開発し、日本・米国・EU・韓国・中国・ ロシアで推進中の国際熱核融合実験炉（ITER）のレーザー導入用・計測用 真空窓として開発したものです。 【特長】 ■窓面の黒汚れなし ■熱歪みのない窓 ■全面均一光学コート ■非磁性＆非放射化 ■耐圧構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） チタンサファイアレーザー、Yb:KGW、Yb:KYWまたは他のフェムト秒レーザーに最適化された性能のミラーが必要ですか。OPTOMANはソリューションを提供します。GTIミラーです。GTIミラーはレイヤーの厚さの空間的変動を備えた誘電体分散ミラーの一種です。モードロックレーザーの分散補償に重宝されております。OPTOMANはブロードバンドで-2000fsまで下げたGDDを持つGTIミラーを皆様のフェムト秒レーザーに合わせてデザインします。 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） ARコートウィンドウは多くの場合高価レーザーシステムを保護します。一見それらはとてもシンプルで容易に製作ができるように見えます。しかし適切なウィンドウの選定には基板やコーティング材料の吸収のようないくつかの厳しい特徴、パフォーマンス安定性、使用頻度などを考慮に入れなければなりません。IBSコーティングのウィンドウは秀逸なスペクトル性能、高い損傷閾値、温度・湿度無依存性能などを引き出すよう最適化されています。OPTOMANは円形や四角形をはじめウェッジやプリズムなど様々な形状にコートできます。 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。 OPTOMANは波長・反射・透過率・SP偏光・入射角・分岐比・損傷閾値などカスタム対応いたします。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） ほぼ同価格で反射率>99.95%のIBSミラーが手に入るのに、なぜ標準的な電子ビーム蒸着のミラーを使うのですか。コスト効率の良いIBSコートされた誘電体ミラーは、特定の波長でのロスや入射角が重要なすべてのレーザー用途において良い仕事をします。電子ビームやイオンアシスト蒸着などの他のコーティングと比べて、IBSコートのミラーはより濃密で頑強、低散乱で低吸収です。熱吸収効果を防ぐため、高純度の溶融石英基板にコーティングされます。OPTOMANのIBSコートミラーは特定波長・入射角において、最大反射率>99.998%、トータルロス（吸収、散乱、透過）<15ppmという仕様が可能です。 高純度の石英ガラス（平面、球状またはウェッジ状）にコーティングされ、粗さ<2Å（0.2nm）まで研磨します。バルクに近い濃密なコーティングは温度や湿度などの環境要因によるパフォーマンスの低下が非常に少ないです。非常に高い反射率を誇る複雑なコーティングはGTIレーザーミラーだとR>99.95%、薄膜ポラライザだとTp/Ts >10000:1を実現できます。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） 高い消光比の基板を合体することは簡単でしょうか、またそれが高エネルギーに対応できますか。Optomanであれば可能です。エポキシフリー、光学的接着によるハイパワー偏光ビームスプリッタキューブです。高エネルギーNd:YAGレーザーやウルトラファーストレーザーおよびその倍波に最適です。 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

メーカー：Optoman（リトアニア） 固定されたビームスプリッタキューブはエポキシ層やコーティング上の理由で、ハイパワーレーザー用途の多くの場合は失敗に終わります。Optomanは入射ビームの偏光に依存しない、誘電体無偏光ビームスプリッタプレートを提供します。 ◆S偏光・P偏光成分一致率が5%以下◆ S偏光・P偏光の反射および透過を5%以下の公差で実現することは、実質的に本製品は偏光無依存と言えます。典型値5%の公差ではありますが、更に厳格な仕様の場合、Optomanは1%以下のS偏光・P偏光の公差を提供いたします。 ◆ゴースト除去のための裏面ARコート◆ 表面はマルチレイヤー状の誘電体コーティングが施されておりますが、裏面も反射ロスの最小化およびゴーストを除去するためにARコーティングされています。 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

メーカー：Optoman（リトアニア） マーケットにはいろいろなポラライザがありますが、ハイパワーレーザー用途に完璧に適しているのは、薄膜ポラライザのみです。誘電体マルチレイヤ―でコーティングされ、横偏光（P偏光）から縦偏光（S偏光）を分離します。薄膜ポラライザはこの機能は高レベルで果たします。コーティング内での吸収がほとんどなく、99%以上の透過率（Tp）、99.9%の反射率（Rs）を実現します。 OPTOMANは消光比、入射角、損傷閾値の観点から最適なソリューションを提案します。IBS技術は45°入射で3000:1を超える消光比を実現します。その一方で損傷閾値は>20J/cm2（1064nm・10ns・100Hz）と高い値を可能にします。 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱・長寿命などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。

３Dマイクロオプティクスのメーカーです。マイクロレンズアレイ、回折光学素子、ビームスプリッタ、ディフューザ、ホモジナイザなど様々なラインアップを取り揃えています。3Dセンシング・イメージングのソリューションとしてToFディフューザパッケージ、CMOSセンサチップ、ToFカメラモジュールなどもございます。その他VICSELをはじめとする各種モジュールもご提案いたします。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） 紫外線波長レンジにおいて高い反射率を実現するにあたり、散乱・吸収のロスはうまく制御する必要があります。UVレーザーユーザーにとっては、ミラーの劣化は大きな問題です。OPTOMANは表面品質と最適化したコーティング技術に注目しました。この技術によりUVレーザーから光学素子を保護し、寿命を延ばします。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） OPTOMANは最先端で高精度、高再現性のIBS（イオンビームスパッタリング）薄膜コーティングを施したレーザー光学素子を2017年より手掛けています。創業時からの活動によりOPTOMANは「ウルトラファーストレーザー光学素子」「高LIDT（損傷閾値）・長寿命」「堅牢で環境に左右されないコーティング」「超低ロスコーティング」「迅速で柔軟なプロトタイピング」のイメージを確立しました。絶えず品質および信頼性の改善を繰り返していくことがOPTOMANの最大の強みであり、最終的にユーザーの皆様は優れた製品をローコストで享受することができます。 経験豊富なスタッフと革新的なIBS技術により、ハイレベルの開発が可能です。斬新的な管理と自動化プロセスは、数百に及ぶレイヤーの複雑な組成の蒸着を実現しました。光スペクトル制御の利点は「高コントラスト」「再現できる性能」「少ない公差」などがあります。ISO-6のクリーンルーム環境により、OPTOMANは高品質の光学素子を開発製造しています。

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） 紫外線波長レンジにおいて高い反射率を実現するにあたり、散乱・吸収のロスはうまく制御する必要があります。UVレーザーユーザーにとっては、ミラーの劣化は大きな問題です。Optomanは表面品質と最適化したコーティング技術に注目しました。この技術によりUVレーザーから光学系を保護し、寿命を延ばします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Diameter: 12.7 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture, CA: min. 10 mm Surface quality, S1: 10-5 S-D over CA as per MIL Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over CA Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRsp>99.7% @ 355 nm, AOI=32 - 45 deg S2: Uncoated

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.0 mm +/-0.1 mm Coatings (IBS, S1 T understood as S1+S2 performance): S1 (arrow marks): HRs>99% @ 345 - 420 nm + HTp>95% @ 690 - 840 nm + 1500 - 2000 nm + HTs>80% @ 1380 - 1700 nm, AOI=60 deg Low GDD Rs <30 fs² @ 345 - 420 nm, AOI=60 deg S2: ARp @ 690 - 840 nm + ARs @ 1380 nm - 1700 nm, AOI=60 deg

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrates material: IRFS (Corning 7978 0F) Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 2.0 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA Transmitted WFD: <λ/8@633 nm per CA Protective chamfers: 0.2 - 0.4 mm x 45° Coatings (IBS): S1: AR_abs<0.3% @ 900 nm - 1160 nm, AOI=0 deg S2: AR_abs<0.3% @ 900 nm - 1160 nm, AOI=0 deg GDD (S1+S2+IRFS substrate) <90 fs^2

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: >80% Surface flatness, S1: <λ/10 @ 633 nm Coating (IBS): S1(arrow marks): HRavg > 99.7% @ 730-870 nm, HRs > 99.7% @ 685-935 nm, AOI 45 deg GDD: 0 ±20 fs2 @ 700 - 900 nm, s-pol & 0 ±20 fs2 @ 740 - 860 nm, p-pol TOD: 10 fs3 @ 800 nm, s-pol & 40 fs3 @ 800 nm, p-pol S2: SCC

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Diameter: 50.8 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 9.52 mm (+/-0.1 mm) Clear aperture: >80% Surface quality, S1: 20-10 S-D Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over CA Parallelism: <10 arcmin Protective chamfer: 0.2-0.5 mm x 45° Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs >99.9 % @ 700 – 900 nm, AOI=45° (|GDDrs| < 20 fss) S2: SCC

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Dimensions: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface flatness, S1: <λ/4 @ 633 nm per CA Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRa>99.8% @ 1010 - 1050 nm, AOI=0-45° |GDD R| <20 fs^2 @ 1010 - 1050 nm, AOI=0-45° S2: Uncoated LIDT: >0.3 J/cm2, 1030 nm, 100 fs, 100 kHz. >0.7 J/cm2, 1030 nm, 800 fs, 100 kHz

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS (C7980 0F) Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: >85% Surface quality, S2: polished Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm per CA Surface flatness, S2: NA Parallelism: <10 arcsec Protective chamfer: 0.2-0.4 x 45° Chips: <0.2 mm stoned Coatings (IBS): S1: HRp>93%@ 206 nm, AOI=45 deg S2: Uncoated

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: Corning IRFS 7979 0F Dimensions: 50x20 mm +0/-0.1 mm Edge thickness: 5 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 40x15 mm rectangular Transmitted wavefront distortion: <λ/8@633 nm Coatings (IBS): S1: AR<0.2% @ 955-1005 nm, AOI 0-5 deg (CWL 980 nm) S2: AR<0.2% @ 955-1005 nm, AOI 0-5 deg (CWL 980 nm) LIDT > 30 kW/cm2 Absorption within coating <= 5 ppm per surface

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: Corning IRFS 7979 0F Dimensions: 50x20 mm +0/-0.1 mm Edge thickness: 10 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 40x15 mm rectangular. Surface irregularity, S1: <λ/8@633 nm over elliptical 40x15 mm CA Coatings (IBS): S1(arrow marks): HRa>99.95% @ 955-1005 nm, AOI 45 deg. (CWL 980 nm) S2: uncoated LIDT > 30 kW/cm2 Absorption within coating <= 5 ppm per surface

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrates material: IRFS (Corning 7978 0F) Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 2.0 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA Transmitted WFD: <λ/8@633 nm per CA Coatings (IBS): S1: AR_abs<0.3% @ 900 nm - 1160 nm, AOI=0 deg S2: AR_abs<0.3% @ 900 nm - 1160 nm, AOI=0 deg GDD (S1+S2+IRFS substrate) <90 fs^2 LIDT: high power applications

メーカー：OPTOMAN（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over X mm CA Chips: <0.2 mm stoned Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs > 99.5% @ 266 nm + Rp<2%; Rs<10% @ 532 nm + Rp<2%; Rs<10% @ 1064 nm, AOI 45 deg. S2: Uncoated LIDT and lifetime enhanced design (ns pulse applications)

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 25.4 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Coated CA: >80% Coated surface quality, S1/S2: 20-10 S-D Coated surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over 8 mm CA Parallelism: <10 arcsec Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg Chips: <0.2 mm Coatings (IBS): S1: HRs > 99.9% , HRp > 99.9% @ 1030 nm, |GDDr ~ 0 fss| AOI 45 deg S2: uncoated

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Dimensions: 49.0 mm +0/0.1 mm Thickness: 0.8 mm +/-0.1 mm Coated area: min 47 mm Clear aperture: min 25 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA Surface flatness, S1/S2: <λ@633 nm Surface irregularity, S1/S2: <λ/4 Coatings (IBS): S1: HRa>99.99% @ 1030 - 1070 nm, AOI=45 deg Low absorption: <10 ppm @ 1064 nm S2: SCC LIDT: CW, ns, high average power 4 kW

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (C7980 0F) Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D over CA Surface flatness, S1/S2: <λ/8@633 nm over CA Protective chamfers: <0.1-0.4 mm x 45 deg Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs>99.7%@1064 nm + HTp>98%@1064 nm, AOI= 44-46 deg S2: ARp<0.1%@1064 nm, AOI= 44-46 deg LIDT enhanced design

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (C7980 0F) Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface quality, S1/S2: 10-5 S-D over CA Transmitted WFD: <λ/8@633 nm over CA [Surface flatness, S1/S2: <λ/3@633 nm over CA, λ/8 @ 633 nm Coatings (IBS): S1 (arrow marks): Rs>99.99% & Tp>98% @ 1064 nm, AOI=45 deg Extinction ratio: Tp/Ts~1:10000 S2:ARp<0.05% @ 1064 nm, AOI=45 deg

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface quality, S1: 20-10 S-D Surface flatness, S1/S2: <λ/8 @ 633 nm over CA Parallelism: <5 arcmin Coatings (IBS): S1: HRs>99.5% @ 257 nm + Rp<1% @ 515 nm, AOI=45 deg S2: ARp<0.1% @ 515 nm, AOI=45 deg LIDT and duty cycle optimized

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: >80% Surface quality, S1: 20-10 S-D Surface flatness, S1: <λ/8 @ 633 nm over 20 mm CA. Parallelism: <10 arcsec Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg Coatings (IBS): S1: HRs > 98.5% @266 nm & HRp > 97.5%@ 266 nm, AOI=45 deg S2: Uncoated

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Ultrafast Broadband Mirror Material: UVFS Dimensions: 25.4 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Clear aperture: >80% Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D per CA Surface flatness, S1/S2: <λ/6@633 nm Coatings (IBS): S1: HRs>99.95% & HRp>99.9%@ 980 - 1080 nm, AOI=45 deg |GDD Rs|<30 fs^2@960-1100 nm, |GDD Rp|<30 fs^2@ 990-1070 nm S2: SCC

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Diameter: 20.0 mm +0/-0.1 mm Thickness: 5.0 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 18 mm Surface flatness, S1/S2: <λ/6 @ 633 nm per CA Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs_avg>99.5% @ 610 nm - 1040 nm, AOI=45 deg GDD Rs -30 fs^2 +/- 80 fs^2 @ 610 nm - 1040 nm, AOI=45 deg S2: SCC LIDT: ~500 GW/cm2 (30-150 fs, Dia3 mm, 2 MHz, 300 uJ)

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Dimensions: 25.4 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Clear aperture: >80% Surface quality, S1: 20-10 S-D per Clear aperture (80%) Surface flatness, S1: <λ/8@633 nm per Clear aperture (80%) Coating (IBS) S1: Rs>99.95% & Rp>99.9% @ 500 - 530 nm, AOI=45 deg |GDD Rs, Rp|<20 fs2 @ 500 - 530 nm, AOI=45 deg S2: Uncoated LIDT: >0.1 J/cm2, 515 nm, 100 fs

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 25.4 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Coated CA: >80% Coated surface quality, S1/S2: 20-10 S-D Coated surface flatness, S1: <λ/8@633 nm over 8 mm CA Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45 deg Chips: <0.2 mm Coatings (IBS): S1: HRsp > 99.8% @ 1030 nm + 515 nm |GDDr ~ 0 fss| @ 1030 nm + 515 nm, AOI 45 deg S2: uncoated

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 50.8 mm +0/-0.1 mm Thickness: 8.0 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 46 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D over CA Transmitted WFD: <λ/10@633 nm over CA S1 (arrow marks): HRs>99.9+HRp>98% @ 1030 nm + HTp>95 (97% best effort) @ 1064 nm, AOI=45+/-1 deg absorption coating (<35ppm) S2: ARp<0.1% @ 1064 nm, AOI=45 deg

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface quality, S1/S2: 20-10 S-D over CA MIL-PRF-13830B Surface flatness, S1/S2: <λ/6 @ 633 nm Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs>99.5% @ 780 nm + HTsp>98% @ 1230-1300 nm, AOI=45° S2: ARsp<0.8% @ 1230-1300 nm, AOI=45° LIDT info: 5mJ @ 1ps, 1kHz, 780nm, 1230-1300nm, beam dia mm 5mm

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS (C7980) Diameter: 12.7 mm +0/-0.1 mm Thickness: 2.0 mm +/-0.1 mm Clear aperture: >90% Surface quality, S1/S2: 10-5 S-D per CA 10 mm according to MIL-PRF-13830B Surface flatness, S1/S2: <λ@633 nm Protective chamfer: 0.2-0.3 x 45° Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRsp_avg>98%@1055-1580 nm + HTp_avg>95%@765-1010 nm, AOI=17° S2: ARp<0.2%@765-1010 nm, AOI=17°

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 50.8 mm +0/-0.1 mm Thickness: 9.52 mm +/-0.1 mm Clear aperture : min. 40 mm Surface quality, S1: 20-10 SD (as per MIL PRF-13830B) Surface flatness, S1: λ/6 @ 633 nm over any 25 mm aperture within CA Surface S2: inspection polished (80-50 SD) Parallelism: <5 arcmin Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HRs>99.9% @ 1064 nm, AOI 45 deg S2: uncoated

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Surface flatness, S1: <λ/4 @ 633 nm Coating (IBS): S1(arrow marks): HRs avg > 99.6% @ 290-470 nm, AOI 45 deg, GDD optimized S2: Uncoated LIDT info: ~1W, 8 fs, 100 kHz, 10-15mm (Gaussian), vacuum environment

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS (Corning 7980 0F) Diameter: 12.7 mm (+0/-0.1 mm) Thickness: 6.35 mm (+/-0.1 mm) Clear aperture: >87% Surface quality, S1/S2: 40-20 S-D Surface flatness, S1: <λ/4@633 nm per CA Parallelism error: <10 arcsec Protective chamfers: 0.1-0.4 mm x 45° Coatings (IBS): S1: HRa>99.5% @ 257 nm + HTa>92% @ 515+1030 nm, AOI=42-48° S2: ARa<0,85% @ 515 + 1030 nm, AOI=42-48°

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Material: UVFS, Corning 7980 0F Diameter: 25.4 mm +0/-0,1 mm Thickness: 3 mm +/- 0,1 mm Clear Aperture: >80% Surface quality, S1/S2: 10-5 SD over CA (MIL-PRF-13830B) Surface flatness, S1: λ/8 @ 632.8 nm over CA Coatings (IBS): S1 (arrow marks): HR>99% @ 376-425 nm + HT>98% @ 700-900 nm, AOI 45 deg GDDr +/- 20 fs2@ 376-425 nm S2: AR<1% @ 700-900 nm + SCC for improved S1 flatness.

メーカー：Optoman（リトアニア） 最先端のIBSコーティング技術により、高い損傷閾値、低吸収・低散乱などの優れた特長を実現しています。OPTOMANはお客様の必要なカスタム品をご提案いたします。 ◆仕様◆ Substrate material: UVFS Diameter: 25.4 mm +0/-0.1 mm Thickness: 6.35 mm +/-0.1 mm Clear aperture: min 20 mm Coated area: min 23 mm Coatings (IBS): S1: ARsp<0.6% @ 940 nm, AOI=45 deg S2 (arrow marks): HTsp>98% @ 940 nm, AOI=40-50 deg (cone), HRs>99% @ 1030 nm, AOI=45 deg LIDT: >2 J/cm2, s-pol, 100 ps, 1030 nm (as per ISO S-on-1, 200 um beam dia)

当社では、Optomanの「波長257-343nmレンジ 劣化しないUV光学系」の ソリューションをご提供しております。 同メーカーは、ダウンタイムをなくすべく、10,000時間を超える照射に 耐えうるウルトラファーストUVレーザー光学系を開発。 これにより10,000時間を超えて使用された場合でも、IBSコートされた 光学系は安定したスペクトル・高いレーザー損傷閾値など必要な パラメータをキープするだけでなく、変色などの悪影響も起こりません。 【特長】 ■熱伝導性もアップ ■低いメンテナンスコスト、ダウンタイム短縮、長寿命という恩恵を 　もたらし、その結果トータルの保有コストを引き下げている ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。