製造・加工受託

京浜ラムテック株式会社

設立1972年5月
資本金2000万
従業員数75名
住所神奈川県横浜市港北区新横浜3-23-3 新横浜AKビル3階
電話045-620-6460
最終更新日：
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スパッタリングターゲット スパッタリングターゲット
金属加工 金属加工
真空成膜装置 真空成膜装置
その他加工品 その他加工品
真空成膜装置

真空成膜装置

当社では、RAMカソード（4面対向式低ダメージスパッタリングカソード）が搭載された「クラスター装置」「インライン装置」「R to R 装置」の3つをラインアップしております。

『RAMフォース』で従来のスパッタリング技術の課題を解決！

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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RAM カソード 原理

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RAM クラスター型スパッタリング成膜装置

Max. Sub. Size : 200mm x 200mm x t1mm Effective deposition width:200mm Number of substrate per tray:1 Deposition methods: Sputter up tray ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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RAM インライン型スパッタリング成膜装置

Max. Sub. Size : 200mm x 300mm x t0.2mm Number of substrate per tray:2 Tray size:350mm×1000mm×20tmm Effective deposition width:620mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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