Hellma Materials Japanの製品・サービス一覧

当社では、放射能検知や高エネルギー加速器といった特殊な装置に好適な 検知器として使用可能な『シンチレーション結晶』を取り扱っております。 優れた特性が詰まっており、幅広い用途でご使用いただけます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■格別に低いバックグラウンド ■優れたエネルギー分解能 ■非常に高い光収率 ■低い減衰時間 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

• その他高分子材料

当社の『フッ化カルシウム（CaF2）』は、長年に渡って半導体製造における マイクロリソグラフィーの鍵を握る材料として使用され続けています。 エキシマレーザーの光学系の素子として標準的に用いられており、更に その特長的な性質は様々な分野のアプリケーションへ応用されています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長（Lithotec(R) CaF2）】 ■深紫外130nm～赤外8μmの広波長域に対する高透過率 ■低い屈折率（nd=1.43384） ■低いスペクトル分散（vd=95.23） ■157m、193nm、248nmといったエキシマレーザーに対する優れたレーザー耐久性 ■高エネルギー分子や放射線への強い耐久性 ■直径420mmと大型の結晶 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

• その他高分子材料
• その他光学部品

当社では、CVD Ceramics社の化学気相成長法（CVD法）によって 製造している硫化亜鉛『CVD Zinc Sulfide(R)』および『Cleartran(R)』を 取り扱っています。 これらの材料は化学的に不活性で、吸湿性も無く、高密度なことから 機械加工性に優れており、円形、長方形などレンズ、プリズム、 ドーム形状への加工が容易に可能です。 【特長】 ■優れた機械強度と耐環境性 ■可視域（0.35nm～）に透明なクリアトラン ■低散乱 ■化学的に不活性 ■非吸湿性 ■簡易な機械加工性 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

• その他高分子材料