【特徴】 ○実験用に小ロット（25枚）から可能　　　　　　　　 ○サブウェーハご指定も可能 ○エピ厚さ公差：6-10%以内(エピ厚さにより変わります） ○抵抗均一性公差：5-15%以内(抵抗により変わります） 【エピ受託加工】 ○直径：76、100、125、150mm ○ドーパント：Boron, Phosphine, Arsenic ○エピ抵抗率：0.1-800 ohm cm ○エピ厚さ：3-150μ 「多層EPIウェーハ加工」 ＊材料支給も対応可能です。 ＊数枚から加工可能です。 ＊基板Si/GaN/InPなど数層積むことも可能です。 ＊膜厚等の仕様によりバッファー層の有無なども違って参りますのでお問い合わせください。 「SiGe Epiウェーハ」 ＊濃度と膜厚によりますが様々に対応可能です。 ＊直径はMAX8インチまで対応可能です。　 ＊Ge濃度：20%, 60%などご希望の濃度をご指定下さい ＊基板にSiやSOIも使用可能です。 ＊多層膜にも対応可能です。 ●詳しくはお問い合わせ下さい。

【特徴】 ○膜種により2インチから４５０ｍｍウェーハへの成膜が可能 ○テストパターン付ウェーハ（6インチから12インチ）に対応 ○レチクルご支給による、露光/エッチングも対応（8インチと12インチ） ○レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ～12インチまで対応可能 ○バックグラインダー：直径5インチ～12インチ ○ダイシング：直径5インチ～12インチ 【12インチ　対応可能膜種】 ○酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG ○窒化膜系：DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN ○金属膜系：TaN、Ta、Cu、Al、Al-Si、Al-SiーCu、Ni、W、W-Si-Cu ○その他：Poｌｙ-Si、A-Si、SiC、Low-ｋ（SiOC系、有機化学系） ●詳しくはお問い合わせ下さい。