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【主な特徴】 ■マーキングエリア:75mm(170mm) ■スポットサイズ:<25ミクロン(6ミクロン) ■描画速度:300mm毎秒(2m毎秒) ■レーザー出力:1W ■波長:355nm ■寸法:760×460×610mm(H) ■動作電圧:100-250VAC/50-60Hz<700W ■スポットサイズ、マーキングエリア及び描画速度はオプションにより変更可能です
共振器内蔵型OPOシステム 【特徴】 ■半導体レーザー励起Nd:YLFレーザーに、OPO結晶を非線形出力ミラーとして利用 ■高出力発振が可能 励起レーザー一体型Ti:Sapphireレーザーシステム 【特徴】 ■励起レーザーとTi:Sapphireレーザーを一体化 ■高出力・高繰り返しで広帯域な領域が発振可能
レイチャーシステムズ社製 レーザー微細加工装置 【特徴】 ○スクライビング ○トリミング ○マーキング(インナーマーク、ガラスマーク、精密マーキング) ○リペア ○微細カッティング ○アニーリング ○パターニング ○ドリリング ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。
【主な特徴】 ■材質に合わせて最適な波長をツマミで選択、最適加工を実現 例)銅箔には532nm(グリーン)、ポリイミド膜には355nm、ITO膜には1064nmが最適 ■線幅に合わせてビームサイズを自由に設定 ■モニターを見ながらコントローラーでビームサイズを任意に設定可能 ■最小2μm×2μm(対物レンズ50X使用時)まで集光加工可能です ■アッテネータに依る細かいパワー設定 ■均一なビームプロファイル ■コンパクトサイズとパソコン並のユティリティー(100V)
【パワーメーター】 レーザーの出力やエネルギーを計測するパワーメーターをご用意しております。出力、波長、発振形態合わせて最適なセンサーとメーターをご提案いたします。 【ビームプロファイラ】 レーザービームのエネルギー分布を計測するビームプロファイラも取り扱っております。減衰器やPCと合わせてご提案いたします。 【フォトディテクター】 パルス波形計測に最適なフォトディテクター各種をご用意しております。 【アッテネータ】 波長 1064nm,532nm,355nm,266nm 用 ハイパワーレーザーに対応 小型 【エキスパンダー】 波長 1064nm,532nm,355nm,266nm 用 ハイパワーレーザーに対応 小型 【大面積テラヘルツエミッター「Tera-SED」】 大面積のデバイスエリアが特徴のフェムト秒パルスレーザーを入射するとテラヘルツ波を発生させる光伝導スイッチ素子です。 【その他の光学部品】 レンズ、ミラーレーザー加工用対物レンズ、フィルム、保護メガネ等、各種取り扱っております。
ウェブハンドリングの課題を解決!非接触の塵埃除去装置などを紹介
大型金属造形や低コストな複合加工に。ロボットシステムの資料進呈