【特徴】 ○各種ガラス基板やシリコンウエハ上に 　様々な金属膜による多層パターンを形成した製品を提供 ○最先端の加工技術を利用して最適のプロセスをご提案 ○フォトマスク製造装置を用いて基板上に直接パターンニング 　することにより超高精度な加工を可能にしている ○クロム、アルミ、Ti、ITOなど多様な金属薄膜を用いた電子回路を 　ガラス、セラミックス、シリコン基板などの上に形成 [フォトエッチング] ○最初に基板上に必要とされる金属などをスパッタリング、 　蒸着などの方法で所定の厚さに成膜し、フォトレジストをコートする ○フォトマスクと露光装置を用いてレジストの露光現像工程を行い 　エッチングにより目的のパターン形状を形成する [リフトオフ] ○フォトエッチングの技術を用いて最終形状と逆のパターンを 　他の金属膜、レジスト像などで形成する ○スパッタリング装置や蒸着装置を用いて 　最終パターン形成部分に金属の成膜を行う ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。