竹田東京プロセスサービスの製品・サービス一覧

当社では、基板設計・編集などの委託業務を実績豊富な技術者が 対応する「基板設計代行サービス」を提供しております。 マスクメーカーとしてはめずらしく単独の設計部門を有しており、 経験豊富な設計者が多数在籍。様々な分野の設計に対応することも 可能です。 図面の作成やデザインチェックをはじめとして、金型などの製造工程で 使用する設備データ、製品完成後の検査データなど、お客さまの製造環境に 合わせたデータ補正などにも対応しております。 【特長】 ■優秀な基板設計(CAD/CAM)人員が多数在籍 ■即戦力なので人材育成不要・固定費削減 ■お客さまの製造環境に合わせたデータ補正が可能 ■様々な情報からの設計・編集に対応可能 ■設計プロセスのプログラム化も可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 基板設計・製造

スクリーンマスクについて知りたいけれど、何から始めればいいかわからないという方に向けた内容です。 この資料を通して、スクリーンマスクの基本から使用されている分野までをわかりやすくご紹介します。 【掲載内容】 ・スクリーンマスクって何？ ・スクリーンマスクの特徴 ・スクリーンマスクを用いた印刷方法 ・スクリーンマスクが使用されている分野 ・竹田東プロのスクリーンマスク 【竹田東プロのスクリーンマスク製造の特徴】 ・スクリーン印刷の課題に対する分析提案力 ・安定した納期・品質で製品を提供 ・高精度スクリーンマスク製造が得意 試作用に1枚から対応してもらいたい。 小ロットでのご依頼など柔軟に対応しております。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 印刷/出版

当資料では、スクリーンマスクの版清掃における商材をご紹介しております。 【こんなお悩みはありませんか】 ■清掃してもスクリーンマスクにインクが残ってしまう ■洗浄剤を使用することで環境面に影響がないか心配 ■高価なインクを無駄にしたくない ■手拭きでの清掃に苦労している など・・・ 弊社ではこれらのお悩みに対して、ご紹介できる商材の取り扱いがあります。 （一部、サンプルのご提供も可能） 【掲載商材】 ■洗浄液 ■ペーストウォール（ペースト回収テープ） ■清掃用フィルム ■洗浄機 各種商材の使用方法について掲載しておりますので、 ぜひご一読ください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他清掃用具

竹田東京プロセスサービス株式会社では、主にエレクトロニクス分野で 培った経験から、スクリーン印刷で好適な塗布を実現します。 スクリーン印刷で本当に思いどおりの塗布を実現することができるのか、 検証するための一番の近道は「実際に塗ってみる(印刷してみる)」こと。 ぜひ、当社にご相談ください! 【こんな方におすすめ】 ■マスク選定のために… ■好適枠選定のために… ■装置を使用して自社のみで… ■ペースト選定のために… ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 印刷/出版

竹田東京プロセスサービスが提供する『FDマスク』は、 マスク層・開口メッシュ層もニッケル合金のめっきで作製したスクリーンマスクです。 印刷したい部分にのみ開口メッシュをデザインすることで、 印刷の負荷によるマスクの変形を防ぎ、印刷物の転写寸法の変化を抑制できます。 【スクリーンマスクによくあるお困りごと】 ■パターンとメッシュが干渉することで印刷に影響がでてしまう… ■メッシュ開口がエッヂ部と重なり、ペーストの出方に差が生じ、直線性が悪くなる… ■同じパターンの繰り返しだが、場所によってメッシュの当たり方が違い、印刷結果に差が出てしまう… ■厚く印刷したいが、パターンの形状によって吐出し難い箇所がある… ■パターンの形状により印刷厚みに違いが出てしまう… ⇒これらのお悩みを「FDマスク」で解決可能です！ 実際の課題解決事例を画像やデータでまとめましたので、ぜひご覧ください！ ＊課題解決資料は［PDFダウンロード］からご自由にご覧いただけます。

• その他半導体

竹田東京プロセスサービスの『校正用プレート』は、 透明な素材（PET ・ガラス）に対し、高精度・高解像度のパターンを形成した製品です。 パターンの形状は、光学デバイスの解像度チェックを目的として、点ないし線状のチャートを規則的に配列したもの、 位置精度のチェックを目的としてドットパターンや十字マークを規則的に配列したものなどがあります。 当社のフォトマスクは、工程ごとの厳しい品質管理を徹底するとともに、最新装置を駆使した短納期・低コストを実現することで、 半導体・電子部品・プリント基板・LCD等向けに、お客様の様々なご要求にお応えしています。 【特長】 ■透明な素材（PET ・ガラス）に対し、高精度・高解像度のパターンを形成 ■測定公差 ・校正事業者登録制度の下で認定された業者による外部校正も可能 ・校正証明を付与し、トレーサビリティが取れていることを確認できる ■アフターサポート：キズ修正/再コーティング/洗浄 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他光学部品

竹田東京プロセスサービスが提供する『マイクロシーブ』は、エレクトロフォーミング法（電鋳法）によりシート状に成型した微細なメッシュです。 フォトリソ工程のない電鋳ニッケルメッキで作成しているため、 表面がフラットであり、開口幅の精度に優れ、ばらつきがありません。 ＊開口幅（目開き）は2μmより承りますが、 　2μｍ未満も試作実績もございますので、是非ご相談ください。（試作実績：開口幅0.1μm） 【採用業界】 化学品メーカー　/　医薬品メーカー　/　大学研究所　/　加工装置メーカー　/　電子部品メーカー 【特長】 ■開口形状は正方形の逆テーパー形状（すり鉢形状） ■長方形・六角形・丸形等一部仕様で対応可能 ■組成はニッケル99.9%以上 ■特性は金属ニッケルに準じる ■サポートグリッド（補強網）加工を施すことにより、ふるいがけ時の強度を補う事が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※現在［無料サンプル］の対応も行っております、ご希望の際はお問合せください。

• フィルタ

竹田東京プロセスサービスでは、フォトマスクへの表面加工を承っております。 ～　現在『フォトマスクへの表面加工に関する課題解決資料』を公開中！　　　～ 　　　　　下部［PDFダウンロード］より、スグにご覧いただけます。 【当資料概要：フォトマスクにこんなお悩みはございませんか？】 （１）フォトマスクの清掃に時間がかかる… 　⇒フォトマスクのコーティングはいかがでしょうか？ 　　コートの撥水性により、汚れ防止・払拭性の向上が期待できます！ （２）CCDカメラの視認性が悪い… 　⇒表面粗し加工がおすすめです！ 　　フォトマスクのパターン周囲を粗し、高コントラスト化することで、カメラの視認性向上が期待できます！ その他「装置の位置合わせに時間がかかる…」や「部品実装後にフォトマスクを使って露光したい…」など、 多数のお悩みに、表面加工から課題解決のご提案をいたします。 ＊本資料は［PDFダウンロード］よりご覧いただけます。 ＊加工サンプルの無料貸出にも対応をしております。詳細はPDF資料参照の上、お気軽にお問い合わせください。

• フォトマスク

竹田東京プロセスサービスでは、プリント基板や電子部品の電子回路形成用として使用される フォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 万全の生産体制で高精度かつ高品質なマスクでお客様の多様なニーズにお応えします！ 本資料は、当社ならではの視点で 『ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基本』を詳しくおまとめしています。 部署の異動や配属、転職等で新たにマスクをご使用になる方向けの資料です。ぜひ選定の際にご活用ください！ 【資料掲載内容】 ◎ガラスマスク編 　・基本構造、種類、作り方 　・ペリクル付きCrガラスマスクについて 　・Emガラスマスク、Crガラスマスクについて ◎スクリーンマスク編　…　基本構造、乳剤の種類、作り方　 ◎メタルマスク編　…　基本構造、種類、作り方 ＊本資料は［PDFダウンロード］よりご覧いただけます。 ＊その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。

• フォトマスク

竹田東京プロセスサービス［ファインプロセス本部］では、ガラスマスクへのマイクロブラスト加工を承っております。 ～　現在、技術資料「マイクロブラスト加工とガラスマスクへの活用」を公開中！　　　～ 　　　　　下部［PDFダウンロード］より、スグにご覧いただけます。 「マイクロブラスト加工」とは、微細粒子を圧縮エアー使用して高速で定量的に被加工物に噴射し、 脆性破壊原理により高精度な微細加工を実現する加工方法です。 ＊加工対象：ガラス（青板・石英）、シリコン、セラミック、各種金属など 【このようなご要望にお応えできます！ガラスマスクへの加工事例】※資料内容抜粋） ●カメラの視認性を上げたい…　→　表面粗し加工による高コントラスト化で改善！ ●装置の位置合わせに時間がかかる…　→　穴あけ加工を生かした工夫で改善！ ●部品実装後にガラスマスクを使って露光したい…　→　ガラスマスクへのザグリ加工で解決！ ⇒詳細は資料をダウンロードの上、PDFにてご参照ください。 ＊本資料は［PDFダウンロード］よりご覧いただけます。 ＊その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。

• フォトマスク

当社 竹田東京プロセスサービスでは、フォトマスク製造で培った技術を応用し、 フォトレジストで立体的な構造を形成した【レジスト原版】を提供しております。 主に、金型（モールド）製造用の原版としての実績があります。 ◎任意の意匠形成 ◎大型製品への対応や微細加工 ⇒オーダーメイドでの柔軟な設計製作が可能です！ 本資料は【レジスト原版】の概要を簡潔に、分かりすくおまとめしています。 ぜひ ”金型製造（モールド製造）用原版” の新しい選択肢として、ご検討ください！ ★資料の詳細は［PDFダウンロード］より、スグにご覧いただけます。 　具体的なご相談やご質問はお気軽［お問い合わせ］ください。

• その他光学部品

竹田東プロは半導体マスクメーカーですが… CAD/CAMによる設計も手掛けております。 【課題解決事例】 ■マスクデータ作成に時間がかかっていませんか？ →プログラムによる自動化で解決！ 8時間の作業を0.5時間に削減！ ■複雑な製品管理に手間がかかっていませんか？ →QRコード追加で解決！作業時間短縮、ヒューマンエラーゼロに！ ■配線の寸法制御にお困りではございませんか？ →補正デザインの追加で解決！生産工程での歩留まりを10％改善！ ～課題解決事例の詳細は［PDFダウンロード］より、資料をご覧ください！～ ◎高精度かつ大容量データに対応 ・最大、小数点以下16桁まで再現可能 ・64bitソフト/128GBメモリ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 基板設計・製造

竹田東京プロセスサービスの『HPFマスク』は、当社新工法にて作製した撥水スクリーンマスクです。 従来の撥水品との接触角よりも、撥水性・耐久性が大幅に向上しているのが特徴です。 【スクリーンマスクによくあるお困りごと】 ・ニジミが発生してしまう… ・マスクの清掃回数が多い… ・マスクの寿命が短い… ⇒このようなお困りごとは『HPFマスク』で解決！ ※技術資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。

• その他半導体

竹田東京プロセスサービス ファインプロセス本部では、高い品質と精度のフォトマスク（ガラスマスク）、 スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 今回、長年のノウハウを元に、半導体マスクに関するお役立ち情報をおまとめ致しました！ ▼公開資料１【５スワイプでわかる！フォトマスクの基本】 ・フォトマスクの基本を知りたい！という方のためのお役立ち資料 ・図やイラストを用いてわかりやすく解説 ・たった5スワイプで理解できる ▼公開資料２【竹田東京プロセスサービスがおすすめする 静電気にもう悩まない！3つの対策】 ・静電気（静電破壊）が起きるメカニズムを、Crガラスマスクの例をもとに解説 ・静電破壊への３つの対策方法をご紹介 ※本資料は、下部「PDFダウンロード」よりご自由にダウンロードいただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。

• その他半導体

本資料では、静電気が起きるメカニズムについて、 Crガラスマスクの例をもとに説明し、おすすめする4つの対策方法をご紹介しています！ これを読めば静電気による「作業不快・部品破壊・集塵による不良」等々のお悩みを解決できます。 特に、電機・電子・半導体業界の製造現場の方におすすめの内容となっております。 ［掲載内容］ ■静電気対策をしていないと、どうなるのか？ ■なぜCrガラスマスクで静電破壊が起きるのか？ ■どういうパターンで発生しやすいのか？ ■静電破壊を発生させないためには ■静電破壊を起こりにくくする『静電破壊対策用Crガラスマスク』もご紹介。 ⇒フォトマスクのプロだから分かるノウハウをおまとめしております。 ［当社について］ 竹田東京プロセスサービスでは、高い品質と精度のフォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。 ※本資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。

• その他半導体

初心者のための『５スワイプでわかる！フォトマスクの基本』 本資料は、フォトマスクの基本を知りたい！という方のためのお役立ち資料です。 図やイラストを用いてわかりやすく解説しており、たった5スワイプで理解できてしまいます！ ［こんな時にぴったり！］ ◆知識の浅い若手社員への説明資料がほしい… ◆異動してきたばかりで情報収集したい… ◆今更基本的なことは社内で聞きづらい… ［当社について］ 高い品質と精度のフォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。 ※本資料は「PDFダウンロード」よりご覧いただけます。 ※その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。

• フォトマスク

『フォトマスク‐エマルジョンマスク‐』は、基材がガラスなので 湿度影響を受けにくいことから、寸法安定性が高く解像性に優れています。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品や、その他各種パッケージ、 タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体

『フォトマスク‐クロムマスク‐』は、耐久性および微細性が高く 高精度な意匠形成に有効です。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 ディスプレイ、タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。 【仕様・規格（抜粋）】 ■最大マスクサイズ（mm）：800×800×12t ■ガラス材質：ソーダライム（SL）／石英（QZ） ■膜質：2層 低反射クロム膜／その他 ■膜厚（μm）：100～160／その他 ■環境温度による影響：0.8μm/℃/100mm（SL）0.05μm/℃/100mm（QZ） ■環境湿度による影響：なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体

当社の『静電破壊対策用Crガラスマスク』は、帯電物が接近してもパターン破壊が起こりにくいフォトマスクです。 大量の露光回数に対しても、破損することなく1枚で対応可能です。 マスクの取り替えにかかっていたコストを削減できるほか、安定した生産スピードを維持できるため、生産効率アップにも貢献します。 また、豊富な静電破壊対策仕様品の量産の経験を活かし、 一般仕様品と同等の工期で、高い除電性能のフォトマスクを提供いたします！ 【静電破壊対策用Crガラスマスクの特長】 ■帯電した人や設備が接近しても破損しづらい ■高い防汚性・清掃性 ■微細性に優れ、高精度な意匠形成が可能 ■電子部品のフォトマスクやキャリブレーションプレートに ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• フォトマスク

＜こんなお悩みに＞ ・ユーザーから新製品が依頼が増え、保管するガラスマスクが増えてきた ・使用頻度は少ないがリピート対応のため処分できない ・管理しやすいようにガラスマスクをケースに入れたまま保管したい ・現在使用しているものが手狭かつ古くなってきたので買い換えたい ガラスマスクラックの他にも、マスク関連設備・装置の販売を行っております。 また、お客さまのニーズに合わせて設計、製作するワンオフ装置についても承っております。 【取扱製品】 ■スクリーンマスク 　・膜厚測定装置 　・テンションゲージ 　・洗浄装置 　・寸法測定装置 ■ガラスマスク 　・自動外観検査装置 　・洗浄装置 　・寸法測定装置 　・保管棚 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• フォトマスク

竹田印刷(株)ファインプロセス事業部と東京プロセスサービス(株)は、2023年4月に事業統合し、新たに「竹田東京プロセスサービス(株)」としてスタートしました！ 当社のフォトマスクは、工程ごとの厳しい品質管理を徹底するとともに、最新装置を駆使した短納期・低コストを実現することで、お客様の様々なご要求にお応えしています。 【製品ラインアップ】 ■クロムガラスマスク 　高精細・高精度の画像形成が可能であり、マスク耐久性が高い ■エマルジョンガラスマスク 　フィルムマスクよりも環境影響を受けにくく、寸法安定性と解像性が良好 ■フィルムマスク 　コストパフォーマンスが高く、20～30μm程度の微細な画像形成も可能 【オプション加工】 表面コーティング　/　クロムガラスマスク向けコーティング　/　ペリクル付きクロムガラスマスク 【特殊対応製品】 ●静電破壊対応クロムガラスマスク ●精度校正用プレート ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体

当社の半導体関連マスク部門は、CAD設計からマスク製造までを一貫生産体制で行います。 スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使して高品質、大量生産、低コスト生産が可能です。 対応スピードと幅広い品ぞろえの両面の充実を実現いたします。 当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」や、「T3マスク」をラインアップしています。 【仕様】 ■枠サイズ 　・最大サイズ：□1,000mm ■メッシュ種 　・ポリエステル/ステンレス ■標準メッシュカウント　 　・ポリエステル：120～305（本/インチ） 　・ステンレス：165～500（本/インチ） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体

当社は、CAD設計からマスク製造までを行う一貫生産体制を構築しております。 スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使した高品質、大量生産、低コストでの生産が可能です。 対応スピードと幅広い品ぞろえの両面での充実を実現いたします！ 【T5マスクについて】 ■用途…配線パターン印刷 ■特徴 ・優れた解像性 ・50umの微細パターンの再現が可能 ・耐摩耗性、耐溶剤性 ・繰り返しの使用にも対応 ※乳剤タイプの比較資料はPDFをダウンロード、もしくはお気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体

当社は、CAD設計からマスク製造までを行う一貫生産体制を構築しております。 スクリーンマスクにおいては、工程ごとの厳しい品質管理を徹底し、万全の検査・機密保持管理体制を整え、新鋭機器を駆使した高品質、大量生産、低コストでの生産が可能です。 対応スピードと幅広い品ぞろえの両面での充実を実現いたします！ 【T4マスクについて】 ■用途…配線パターン印刷、ベタパターン印刷 ■特徴 ・100μmの配線パターンに対応可能 ・ベタパターン印刷にも対応できるマルチな性能 ※乳剤タイプの比較資料はPDFをダウンロード、もしくはお気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体

当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。 【耐水・耐溶剤加工について】 ペーストや洗浄剤に含まれる溶剤に対し、乳剤の膨潤を抑制します。 連続印刷時の膜厚変動防止に対して有効です。 ※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体

当社の『スクリーンマスク』は、解像性に優れ、50umの微細パターンの再現が可能な「T5マスク」をはじめ、「T4マスク」をラインアップしています。 【撥水・撥油加工について】 ペーストの吐出性をコントロールし、印刷ニジミ防止に有効です。 連続印刷性の向上が期待できます。 ※その他オプション詳細はPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体

【適用マスクとそのメリット】 ■クロムガラスマスク…防汚性・清掃性の向上 ■エマルジョンガラスマスク…耐久性向上(膜面保護・擦傷防止) ■フィルムマスク…耐久性向上(ESD対策) 【コーティングの特徴】 ◆透過率（波長：365nm）…95％以上(未コートガラスとの相対値) ◆UV照射耐性（10,000J/cm2照射）…低下なし ◆密着性（碁盤目試験）…剥がれなし ◆耐水性（純水で浸漬10分）…変化なし ◆耐溶剤性（アセトン・IPAで浸漬10分）…変化なし ◆耐薬品性（アルカリ液(希釈5%)・酸液(希釈5%)で10分浸漬）…変化なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体