多用途の薄膜形成が可能！導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱
『Pioneer 120 PLD System』は、PLD(パルスレーザー堆積法)装置です。 標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で、 導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱することが可能。 また、パルスレーザー(＜20nsのパルス幅)により素早く目的の物質を蒸発させ、 その組成を維持したまま薄膜の形成が可能です。 【特長】 ■PLD(Pulsed Laser Deposition) ・パルスレーザー堆積法により多用途の薄膜を形成することが可能 ■パルスレーザー(＜20nsのパルス幅) ・素早く目的の物質を蒸発させ、 その組成を維持したまま薄膜の形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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【その他の特長】 ■標準的な装置で基板サイズが直径1inchと2inch対応で 導電ヒーターにより950℃まで基板を加熱することが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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弊社ホームページでFPD・半導体関連の中古設備情報を掲載しています。 ●主な業務内容 半導体製造装置の中古買取、リファビッシュ(再生)、販売、立上業務 半導体製造ラインの構築及びコンサルタント FPD製造装置の中古買取、リファビッシュ（再生)、販売、立上業務 FPD製造ラインの構築及びコンサルタント 半導体製造設備及びFPD製造設備の受託開発・製造・販売 各種装置部品の販売 海外製製造装置の代理店販売