スパッタ装置 - 企業ランキング(全45社)

更新日：2026年07月08日集計期間:2026年06月10日〜2026年07月07日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
ビューラー株式会社	所在地神奈川県従業員数 86 事業内容 ■ビジネスユニット■ グレインクオリティ＆サプライ（穀物貯蔵、穀物搬送、モルト製造・醸造）ミリングソリューション（製粉）バリューニュートリション（パスタ、シリアル、スナック、代替タンパク質などの加工食品、飼料製造）デジタルテクノロジー（光学式選別、精米）コンシュ... 主要取引先	光学薄膜用スパッター装置 HELIOS 応相談	【特徴】・PARMS (Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering)プロセス技術を用い、アーキングのない高レートで安定した製膜を実現。・MF（中周波）電源を用い金属酸化膜、窒化膜を製膜。・膜厚制御はダイレクトモニターリン...
ビューラー株式会社		精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600 応相談	ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％の範囲内で...	高出力レーザーミラー DWDM, CWDM フィルタ、等
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ビューラー株式会社

所在地

神奈川県

従業員数

86

事業内容

■ビジネスユニット■ グレインクオリティ＆サプライ（穀物貯蔵、穀物搬送、モルト製造・醸造）ミリングソリューション（製粉）バリューニュートリション（パスタ、シリアル、スナック、代替タンパク質などの加工食品、飼料製造）デジタルテクノロジー（光学式選別、精米）コンシュ...

主要取引先

代表製品

光学薄膜用スパッター装置 HELIOS

概要

【特徴】・PARMS (Plasma Assisted Reactive Magnetron Sputtering)プロセス技術を用い、アーキングのない高レートで安定した製膜を実現。・MF（中周波）電源を用い金属酸化膜、窒化膜を製膜。・膜厚制御はダイレクトモニターリン...

用途/実績例

　　

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

概要

ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％の範囲内で...

用途/実績例

高出力レーザーミラー DWDM, CWDM フィルタ、等
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所在地

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事業内容

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