フォトマスクのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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フォトマスク - 企業ランキング(全5社)

更新日： 集計期間:2025年03月26日〜2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
竹田東京プロセスサービス株式会社 竹田東京プロセスサービス株式会社 湘南藤沢センター、北陸センター、テクノセンター
フォトマスク（半導体・電子部品・プリント基板・LCD等向け）
フォトマスク（半導体・電子部品・プリント基板・LCD等向け）

応相談

 【オプション加工詳細】 ●表面コーティング（クロムガラスマスクやエルマジョンガラスマスク） →撥水性や密着性向上による、防汚性・清掃性の向上や、膜面保護や擦傷防止による耐久性向上を実現します。 ●クロムガラスマスク向けコーティング →撥水・撥油性の向上により、汚れの固着を防止し、付着異物も容易に清掃することが可能となります。 ●ペリクル付きクロムガラスマスク →投影露光用クロムマスクで用いられ、異物から守るペリクルが付与されています。 【特殊対応製品】 ●静電破壊対応クロムガラスマスク →導電膜構造が付与されることで、静電気によるクロムパターン破壊を抑制します。 ●精度校正用プレート →穴あけやミゾ、段差などの追加工も可能とするガラスプレート。 　印刷機器では印刷位置精度の確認や、外観検査装置のカメラ分析機能のチェック等で活躍します。 【関連資機材】 ・ガラスマスク洗浄装置 ・ガラスマスク自動外観検査装置 ・ガラスマスク保管棚 【用途】 ■PWB・FPC・電子部品等のパターン原版 ■キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)（クロムガラスマスクのみ）
電子部品向けフォトマスク『表面コーティング』
電子部品向けフォトマスク『表面コーティング』

応相談

 ■コート膜厚（nm）：10 ■表面硬度（H）：4 ■離形性（N/cm）：0.75 ■耐溶剤性：IPA/アセトン ラビング(200回)、浸漬(24H)試験後の観察で影響なし ■接触角：値：113.7° ※上表以外にも、厚膜コートなどのラインナップがございます。 　ご要望に応じて柔軟に対応しますので、是非ご相談ください。 【用途】 ■PWB・FPC・電子部品等のパターン原版 ■キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)（クロムガラスマスクのみ）
『クロムマスク』電子部品向け（半導体・液晶パネル）フォトマスク
『クロムマスク』電子部品向け（半導体・液晶パネル）フォトマスク

応相談

 【その他の仕様・規格】 ■描画精度 ・Mode-A＋/Mode-A/Mode-B/Mode-C/Mode-D/Mode-E ■最小L/S（μm） ・0.75/1.0/2.0/3.0/5.0/8.0 ■短寸精度（μm） ・±0.075/±0.1/±0.2/±0.5/±0.5/±1.5 ■長寸精度（μm） ・±0.75/±1.0/±2.0/±1.5/±2.0/±4.0 【用途】 ■CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 　ディスプレイ、タッチパネル形成用など
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  1. 竹田東京プロセスサービス株式会社 竹田東京プロセスサービス株式会社 湘南藤沢センター、北陸センター、テクノセンター
    代表製品
    フォトマスク（半導体・電子部品・プリント基板・LCD等向け）フォトマスク（半導体・電子部品・プリント基板・LCD等向け）
    概要
    【オプション加工詳細】 ●表面コーティング（クロムガラスマスクやエルマジョンガラスマスク） →撥水性や密着性向上による、防汚性・清掃性の向上や、膜面保護や擦傷防止による耐久性向上を実現します。 ●クロムガラスマスク向けコーティング →撥水・撥油性の向上により、汚れの固着を防止し、付着異物も容易に清掃することが可能となります。 ●ペリクル付きクロムガラスマスク →投影露光用クロムマスクで用いられ、異物から守るペリクルが付与されています。 【特殊対応製品】 ●静電破壊対応クロムガラスマスク →導電膜構造が付与されることで、静電気によるクロムパターン破壊を抑制します。 ●精度校正用プレート →穴あけやミゾ、段差などの追加工も可能とするガラスプレート。 　印刷機器では印刷位置精度の確認や、外観検査装置のカメラ分析機能のチェック等で活躍します。 【関連資機材】 ・ガラスマスク洗浄装置 ・ガラスマスク自動外観検査装置 ・ガラスマスク保管棚
    用途/実績例
    【用途】 ■PWB・FPC・電子部品等のパターン原版 ■キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)（クロムガラスマスクのみ）
    電子部品向けフォトマスク『表面コーティング』電子部品向けフォトマスク『表面コーティング』
    概要
    ■コート膜厚（nm）：10 ■表面硬度（H）：4 ■離形性（N/cm）：0.75 ■耐溶剤性：IPA/アセトン ラビング(200回)、浸漬(24H)試験後の観察で影響なし ■接触角：値：113.7° ※上表以外にも、厚膜コートなどのラインナップがございます。 　ご要望に応じて柔軟に対応しますので、是非ご相談ください。
    用途/実績例
    【用途】 ■PWB・FPC・電子部品等のパターン原版 ■キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)（クロムガラスマスクのみ）
    『クロムマスク』電子部品向け（半導体・液晶パネル）フォトマスク『クロムマスク』電子部品向け（半導体・液晶パネル）フォトマスク
    概要
    【その他の仕様・規格】 ■描画精度 ・Mode-A＋/Mode-A/Mode-B/Mode-C/Mode-D/Mode-E ■最小L/S（μm） ・0.75/1.0/2.0/3.0/5.0/8.0 ■短寸精度（μm） ・±0.075/±0.1/±0.2/±0.5/±0.5/±1.5 ■長寸精度（μm） ・±0.75/±1.0/±2.0/±1.5/±2.0/±4.0
    用途/実績例
    【用途】 ■CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、 　ディスプレイ、タッチパネル形成用など
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