UV装置 - 企業ランキング(全12社)
更新日： 集計期間:2025年06月18日〜2025年07月15日
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| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
高照度エキシマUV装置
応相談 |
【レンタルのメリット】 ・装置導入が難しい ・既存の装置が故障した時 ・急遽、エキシマUV装置が必要になった ・保守、メンテナンス、固定資産税、管理コストを抑えたい ・新規装置導入可能：別途ご相談下さい 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素（CDA）を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能 【主な用途】 ・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング ・チップ、フィルム、基板接合面洗浄 | 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素（CDA）を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能 【主な用途】 ・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング ・チップ、フィルム、基板接合面洗浄 【装置導入事例】 ・G8サイズTFT基板成膜前洗浄装置 ・ロールtoロール洗浄装置 ・レジストアッシング装置 | |
| 超小型ハンディ式エキシマUV装置 本体重量：3.8kg 寸法：W320×D260×H180mm デモ機貸出可能 【社内実験機仕様】 ・実験可能サイズ：600×700mm（最大） ・ランプ照度：50～140mW ・ランプ灯数：5本 ・ステージ搬送速度：0.5～5.8m/min ・雰囲気ユーティリティー：N2、CDA、大気中 ・クリーンルーム：クラス10,000 ・接触角計での測定可能 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【主な用途】 ・ガラス、フィルムの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング | 超小型ハンディ式エキシマUV装置 本体重量：3.8kg 寸法：W320×D260×H180mm デモ機貸出可能 【社内実験機仕様】 ・実験可能サイズ：600×700mm（最大） ・ランプ照度：50～140mW ・ランプ灯数：5本 ・ステージ搬送速度：0.5～5.8m/min ・雰囲気ユーティリティー：N2、CDA、大気中 ・クリーンルーム：クラス10,000 ・接触角計での測定可能 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【主な用途】 ・ガラス、フィルムの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング | ||
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ブルーオーシャンテクノロジー株式会社
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- 代表製品
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高照度エキシマUV装置
- 概要
- 【レンタルのメリット】 ・装置導入が難しい ・既存の装置が故障した時 ・急遽、エキシマUV装置が必要になった ・保守、メンテナンス、固定資産税、管理コストを抑えたい ・新規装置導入可能：別途ご相談下さい 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素（CDA）を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能 【主な用途】 ・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング ・チップ、フィルム、基板接合面洗浄
- 用途/実績例
- 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過や反射損失もほとんどなく効率が高い。個々のランプホルダーよりランプ管壁に沿って窒素（CDA）を噴出。効率よくオゾンを生成し少量で均一に酸素濃度の制御が可能 【主な用途】 ・ガラス、フィルム、ウエハの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング ・チップ、フィルム、基板接合面洗浄 【装置導入事例】 ・G8サイズTFT基板成膜前洗浄装置 ・ロールtoロール洗浄装置 ・レジストアッシング装置
エキシマUV装置（ハンディタイプ）
- 概要
- 超小型ハンディ式エキシマUV装置 本体重量：3.8kg 寸法：W320×D260×H180mm デモ機貸出可能 【社内実験機仕様】 ・実験可能サイズ：600×700mm（最大） ・ランプ照度：50～140mW ・ランプ灯数：5本 ・ステージ搬送速度：0.5～5.8m/min ・雰囲気ユーティリティー：N2、CDA、大気中 ・クリーンルーム：クラス10,000 ・接触角計での測定可能 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【主な用途】 ・ガラス、フィルムの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング
- 用途/実績例
- 超小型ハンディ式エキシマUV装置 本体重量：3.8kg 寸法：W320×D260×H180mm デモ機貸出可能 【社内実験機仕様】 ・実験可能サイズ：600×700mm（最大） ・ランプ照度：50～140mW ・ランプ灯数：5本 ・ステージ搬送速度：0.5～5.8m/min ・雰囲気ユーティリティー：N2、CDA、大気中 ・クリーンルーム：クラス10,000 ・接触角計での測定可能 【特徴】 ・高照度ＲＦ放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長：MAX G10サイズまで 【主な用途】 ・ガラス、フィルムの洗浄表面改質 ・フィルム、ガラス、樹脂、金属等の貼り合わせ ・HDD洗浄、改質、潤滑油硬化 ・レジスト除去、アッシング
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