ターゲット - 企業ランキング(全25社)
更新日: 集計期間:2026年08月19日〜2026年09月15日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
|---|---|---|---|
| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【特長】 ・純度≧3N5 ・Hf≦0.2wt% (Hf<500ppm可能) ・そり≦0.1mm ・GDMS純度測定による品質保証 ・輸出許可書取得済み 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場... | 【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■光学と光電の分野 | ||
| ■1000mm以内、一枚物可能 ■傷、チッピングなし ■組成比率+/-0.5wt% ■表面、内部などㇲがないこと | フラットパネルディスプレイの配線や磁気記録媒体、磁気センサーなど | ||
銅(Cu)ターゲット
応相談 |
■純度:3N7、4N、4N5、5N、5N5、6N ■結晶:40‐80um ■材質型番:無酸素銅、C1020、C18200、C18150... | 【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロン ■表示技術(LCD/OLED) ■光学コーティング ■新エネルギー ■その他 | |
|
---
--- |
--- | --- | |
-
- 代表製品
-
【半導体薄膜向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット
- 概要
- 【特長】 ・純度≧3N5 ・Hf≦0.2wt% (Hf<500ppm可能) ・そり≦0.1mm ・GDMS純度測定による品質保証 ・輸出許可書取得済み 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場...
- 用途/実績例
- 【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■光学と光電の分野
アルミネオジム(Al-Nd)ターゲット
- 概要
- ■1000mm以内、一枚物可能 ■傷、チッピングなし ■組成比率+/-0.5wt% ■表面、内部などㇲがないこと
- 用途/実績例
- フラットパネルディスプレイの配線や磁気記録媒体、磁気センサーなど
銅(Cu)ターゲット
- 概要
- ■純度:3N7、4N、4N5、5N、5N5、6N ■結晶:40‐80um ■材質型番:無酸素銅、C1020、C18200、C18150...
- 用途/実績例
- 【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロン ■表示技術(LCD/OLED) ■光学コーティング ■新エネルギー ■その他
-
すべてを閲覧するには会員登録(無料)が必要です。
すでに会員の方はこちら
株式会社スパッタコア 本社