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【半導体薄膜向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット

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最終更新日:2026年01月07日

株式会社スパッタコア 本社
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高品質ジルコニウム(Zr)ターゲットで、半導体薄膜の品質向上をサポート

半導体業界において、薄膜形成はデバイスの性能を左右する重要な工程です。ジルコニウム(Zr)ターゲットは、高い純度と均一な膜質が求められます。特に、薄膜の密着性や耐食性は、製品の信頼性を大きく左右するため、高品質なターゲット材の選定が不可欠です。当社のジルコニウム(Zr)ターゲットは、高い純度と厳格な品質管理により、これらの課題に対応します。 【活用シーン】 ・スパッタリングによる薄膜形成 ・半導体デバイス製造 ・高品質な薄膜が必要な研究開発 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成によるデバイス性能向上 ・歩留まりの向上 ・信頼性の高い製品の提供

    その他金属材料
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【半導体薄膜向け】ジルコニウム(Zr)ターゲット

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  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/sputtercore/product/

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基本情報

【特長】 ・純度≧3N5 ・Hf≦0.2wt% (Hf<500ppm可能) ・そり≦0.1mm ・GDMS純度測定による品質保証 ・輸出許可書取得済み 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様の事業発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かして新たな価値を提供します。

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【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■原子力産業 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■光学と光電の分野 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ジルコニウム(Zr)ターゲット【金属ターゲット】

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  当社はターゲット材分野で長年に経験をもつ専門サプライヤーとして、高品質なスパッタリングターゲット原材料の選定、仕入れから倉庫管理、製造、品質検査までカバーする全体の品質管理体制を整え、且つ全ロット精密検査を行い、純度や密度、結晶粒径などの主要指標の高レベルを確保しております。   また、弊社はジルコニウムターゲット(Zr)、ハフニウム(Hf)、タングステン(W)、タンタル(Ta)などの規制対象材料について、法令で必要な輸出許可証を注文ごと取得しています。お客様の安定購入のため、購入先国の政策が変わっても、新しい規制政策を理解し、十分な在庫、柔軟な生産対応、迅速な物流で対応致します。これまでの実績でも、輸出規制の影響でお客様の生産スケジュールが滞ったことはなく、納期達成率はほぼ100%、また急な要望にも対応可能です。   お客様に対し安定供給の重要性を十分理解しており、その為に在庫管理、品質追跡システムを間断なく改善を進め、お客様に安心頂いております。   お客様事業の発展を第一に考え、法令遵守を前提とし高品質なターゲット材料を軸に、お客様にとって一番信頼できる長期パートナーであり続けます。

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