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【半導体薄膜向け】タンタル(Ta)ターゲット

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最終更新日:2026年01月07日

株式会社スパッタコア 本社
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高純度タンタル(Ta)ターゲットで、薄膜形成の品質と効率を向上

半導体業界において、薄膜はデバイスの性能を左右する重要な要素です。特に、微細化が進む中で、薄膜の均一性、密着性、耐熱性、耐食性が求められます。不適切な薄膜形成は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社のタンタル(Ta)ターゲットは、高品質な薄膜形成を可能にし、半導体デバイスの信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・PVD/CVDプロセスにおける薄膜形成 ・半導体デバイスの配線形成 ・高密度記録媒体の製造 【導入の効果】 ・薄膜の均一性向上 ・デバイスの性能向上 ・歩留まりの改善

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【半導体薄膜向け】タンタル(Ta)ターゲット

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基本情報

【特長】 ・高純度(99.999% 5N) ・均一結晶粒構造 ・高耐熱性、優れた耐蝕性 ・高密度(16.6g/cm3) ・良好な導電性 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術を持つ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様の事業発展を支援します。

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【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■光学・光電子分野 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■腐食防止コーティング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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スパッタリングターゲット 薄膜材料【製品紹介】

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  当社はターゲット材分野で長年に経験をもつ専門サプライヤーとして、高品質なスパッタリングターゲット原材料の選定、仕入れから倉庫管理、製造、品質検査までカバーする全体の品質管理体制を整え、且つ全ロット精密検査を行い、純度や密度、結晶粒径などの主要指標の高レベルを確保しております。   また、弊社はジルコニウムターゲット(Zr)、ハフニウム(Hf)、タングステン(W)、タンタル(Ta)などの規制対象材料について、法令で必要な輸出許可証を注文ごと取得しています。お客様の安定購入のため、購入先国の政策が変わっても、新しい規制政策を理解し、十分な在庫、柔軟な生産対応、迅速な物流で対応致します。これまでの実績でも、輸出規制の影響でお客様の生産スケジュールが滞ったことはなく、納期達成率はほぼ100%、また急な要望にも対応可能です。   お客様に対し安定供給の重要性を十分理解しており、その為に在庫管理、品質追跡システムを間断なく改善を進め、お客様に安心頂いております。   お客様事業の発展を第一に考え、法令遵守を前提とし高品質なターゲット材料を軸に、お客様にとって一番信頼できる長期パートナーであり続けます。

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