レーザ装置 - 企業ランキング(全6社)
更新日: 集計期間:2025年08月27日〜2025年09月23日
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企業情報を表示
会社名 | 代表製品 | ||
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製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
【仕様】 ■波長:355nm ■ラインビームサイズ:10mm×1mm ■照射エネルギー密度:25~250mJ/cm2(バリアブルアッテネータ) ■ワークサイズ(mm):最大150×150、オプション G2(370×470) ■処理能力:約5分(100×100基板) ■... | 【活用状況】 ■フレキシブルディスプレイ後工程 ■LED製造 ■極薄シリコンウエハ工程 | ||
【仕様】 ■波長:355nm (オプション266/532nm) ■ラインビームサイズ:40mm x 0.4mm (Fタイプ) ■ビーム均一性:±5%(長軸) ■照射エネルギー密度:4~300mJ/cm2 (バリアブルアッテネータにより制御) ■ビームオーバラップ:0... | 【応用例】 ■フレキシブルディスプレイ ■極薄シリコンウエハプロセス ■有機半導体プロセス など | ||
【仕様】 ■波長:355nm ■ラインビームサイズ:100mm/40mm x 0.4mm ■照射エネルギー密度:100~500mJ/cm2可変(バリアブルアッテネータ) ■ビームオーバラップ:0%~95%(ステージ制御) ■ワークサイズ(mm):最大500x500(ご要... | |||
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- 代表製品
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実験用固体UVレーザLLO装置『LSL-10』※デモ機貸出
- 概要
- 【仕様】 ■波長:355nm ■ラインビームサイズ:10mm×1mm ■照射エネルギー密度:25~250mJ/cm2(バリアブルアッテネータ) ■ワークサイズ(mm):最大150×150、オプション G2(370×470) ■処理能力:約5分(100×100基板) ■...
- 用途/実績例
- 【活用状況】 ■フレキシブルディスプレイ後工程 ■LED製造 ■極薄シリコンウエハ工程
UV固体レーザLLO装置『LSL-515-F/D』
- 概要
- 【仕様】 ■波長:355nm (オプション266/532nm) ■ラインビームサイズ:40mm x 0.4mm (Fタイプ) ■ビーム均一性:±5%(長軸) ■照射エネルギー密度:4~300mJ/cm2 (バリアブルアッテネータにより制御) ■ビームオーバラップ:0...
- 用途/実績例
- 【応用例】 ■フレキシブルディスプレイ ■極薄シリコンウエハプロセス ■有機半導体プロセス など
新型固体UVレーザLLO装置『LSL-40/100』
- 概要
- 【仕様】 ■波長:355nm ■ラインビームサイズ:100mm/40mm x 0.4mm ■照射エネルギー密度:100~500mJ/cm2可変(バリアブルアッテネータ) ■ビームオーバラップ:0%~95%(ステージ制御) ■ワークサイズ(mm):最大500x500(ご要...
- 用途/実績例
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