洗浄ユニット - 企業ランキング(全20社)

更新日：2026年10月07日集計期間:2026年09月09日〜2026年10月06日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
株式会社プレテック　静岡製作所	所在地静岡県事業内容 ■装置事業：半導体業界、フォトマスク業界、ディスク業界及びレンズ業界に対し、　お客様の用途、製造ライン等に対応した次の各種装置の開発・設計・製造及び販売・シリコンウェハー洗浄装置　(バッチ式カセットレス洗浄装置、枚葉式スピンソニック洗浄装置) ・マスク洗浄装置・ディスク洗... 主要取引先	ウルトラソニック洗浄ユニット応相談	【スイープソニック特長】 ■超音波による定在波の波長を連続的に変化させ超音波エネルギーの強弱を完全にクリアー ■高洗浄度が要求され、ダメージも与えられないSi、GaAs、フォトマスク基板、　磁気ディスク等の洗浄に好適
		【フォトマスク向け】近接型メガソニック PA10-Q60AE-S 応相談	【特長】・ノズル材質は石英のため低発塵で薬液に耐久性がある・ノズル先端より1.0MHzまたは3.0MHzの音波を照射・低出力領域からリニアリティーの高い発振を可能としている・基板直近での洗浄するため、サブミクロンのパーティクルが除去できる・空振り防止機能保有する液供給が...	【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄
		半導体ウェハー向け洗浄ユニット『PA10-Q60AE-S』応相談	【特長】・1.0MHzまたは3.0MHzの高周波音波を基板へ直接照射・独自の液供給システム・高純度石英製で、低発塵かつ耐薬品性に優れる・基板直上照射方式・空振り防止機能保有する液供給が可能・多様な発振モードを搭載し、基板プロセスに適応した調整が可能	【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄
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株式会社プレテック　静岡製作所

所在地

静岡県

事業内容

■装置事業：半導体業界、フォトマスク業界、ディスク業界及びレンズ業界に対し、　お客様の用途、製造ライン等に対応した次の各種装置の開発・設計・製造及び販売・シリコンウェハー洗浄装置　(バッチ式カセットレス洗浄装置、枚葉式スピンソニック洗浄装置) ・マスク洗浄装置・ディスク洗...

主要取引先

代表製品

ウルトラソニック洗浄ユニット

概要

【スイープソニック特長】 ■超音波による定在波の波長を連続的に変化させ超音波エネルギーの強弱を完全にクリアー ■高洗浄度が要求され、ダメージも与えられないSi、GaAs、フォトマスク基板、　磁気ディスク等の洗浄に好適

用途/実績例

【フォトマスク向け】近接型メガソニック PA10-Q60AE-S

概要

【特長】・ノズル材質は石英のため低発塵で薬液に耐久性がある・ノズル先端より1.0MHzまたは3.0MHzの音波を照射・低出力領域からリニアリティーの高い発振を可能としている・基板直近での洗浄するため、サブミクロンのパーティクルが除去できる・空振り防止機能保有する液供給が...

用途/実績例

【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄

半導体ウェハー向け洗浄ユニット『PA10-Q60AE-S』

概要

【特長】・1.0MHzまたは3.0MHzの高周波音波を基板へ直接照射・独自の液供給システム・高純度石英製で、低発塵かつ耐薬品性に優れる・基板直上照射方式・空振り防止機能保有する液供給が可能・多様な発振モードを搭載し、基板プロセスに適応した調整が可能

用途/実績例

【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄
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所在地

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事業内容

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