基板直近照射で効率的に微粒子を除去。高周波メガソニックを用いた精密ウェハー洗浄ユニット。※デモ機あり
近接メガソニック洗浄ユニット「PA10-Q60AE-S」は、 1.0MHzまたは3.0MHzの高周波音波を基板へ直接照射し、 微粒子や残渣を非接触で効率よく除去できる洗浄ユニットです。 独自の液供給システムを備え、基板外周部まで均一な洗浄エリアを確保。 液体の飛散やエネルギー損失を抑え、微細構造を持つ半導体ウェハーや フォトマスク基板の精密洗浄に適しています。 本体は高純度石英製で、低発塵かつ耐薬品性に優れ、強酸・強アルカリ薬液との併用洗浄にも対応。 基板直上照射方式のため枚葉洗浄装置との相性が良く、プロセスごとに柔軟な設計が可能です。 【用途】 ・半導体ウェハーの微粒子除去 ・フォトレジスト剥離後の残渣洗浄 ・TSV・MEMS構造、成膜後、CPM後の洗浄 など ※使用感を確認できるデモユニットもご用意しています。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【その他の特長】 ■空振り防止機能保有する液供給が可能 ■基板への振り切り動作も可能で基板全体への再現性の高い洗浄を実現 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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用途／実績例
【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、半導体業界、フォトマスク業界、ディスク業界及びレンズ業界に対し、 お客様の用途、製造ライン等に対応した各種装置の開発・設計・製造及び販売 などを行っている会社です。 顧客仕様に基づくカスタマイズ生産に特化し、設計、開発、組立て、検査、 据付、保守に至るまで製品のライフサイクルをトータルにサポート。 すべての工程で顧客と密接な関係を構築することで直接、顧客の考える問題点や 技術トレンドを感じ取り、それに応じた開発にいち早く着手しています。
