超音波洗浄機の製品一覧
- 分類：超音波洗浄機
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
ワークの水切りでこんな間違いしていませんか？
【ワークの水切りでお困りのご担当者のあなたへ】 ワークの水切りでこんな間違いをしていませんか？ ✓あなたは、なぜ、エアーブローの風を強くしても水滴がすべて吹き飛ばないか？その本当の理由を知っていますか？ ✓あなたは、なぜ、エアーノズルの個数を増やしても十分に水が切れないのか？その本当の理由を知っていますか？ ✓あなたは、なぜ、エアーノズルの形状を変えても水が切れるようにならないのか？その本当の理由を知っていますか？ これらの間違いは、エアーブローでワークの水切り・水滴除去をしている企業がよくやってしまっている典型的な間違いです。 ですが、これらの間違いは、とある"致命的な間違い"に比べれば、大した間違いではありません。 その"致命的な間違い"とは何か？それは… PDFファイルにてお伝えしています。 今すぐダウンロードして、確認してください。
これさえ見ればすべて分かる！PRチラシを作成しました（除塵版）
エアーブローでワークのダストを徹底除塵！ 特許取得の完全除塵エアーノズル『エアースクリューノズル』のすべてを、A4チラシ1枚にまとめました。 「どんなノズルなのか？」「なぜ、そんなに除塵できるのか？」「なぜ、複雑形状のワークでも除塵できるのか？」 これさえ見れば、エアースクリューノズルのすべてが手っ取り早く分かります。 ぜひダウンロードいただき、ご覧ください。
これさえ見ればすべて分かる！PRチラシを作成しました
エアーブローで100％水が切れる！ワークに水滴が残らない！ 特許取得の完全乾燥エアーノズル『エアースクリューノズル』のすべてを、A4チラシ1枚にまとめました。 「どんなノズルなのか？」「本当に100％水が切れるのか？」「なぜ、そんなに水が切れるのか？」 これさえ見れば、エアースクリューノズルのすべてが手っ取り早く分かります。 ぜひダウンロードいただき、ご覧ください。
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
次世代メガソニック技術で最大300mmウェハーも一瞬でクリアに
- フォトマスク
- その他半導体製造装置
- 超音波洗浄機
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
SONOSYS社製メガソニック洗浄装置 最新リーフレット公開のお知らせ
このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。
SONOSYS社製メガソニック洗浄装置 最新リーフレット公開のお知らせ
このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。
SONOSYS社製メガソニック洗浄装置 最新リーフレット公開のお知らせ
このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。
超音波洗浄の役割や、効果を最大化する運用の6つのコツと注意点などをご紹介します！
- 超音波洗浄機
- 超音波洗浄器
- バイオ関連製品洗浄剤・メンテナンス・消耗品
「超音波洗浄の原理とは？周波数の仕組みから装置選定・運用まで解説」のページを追加しました。
産業用部品の製造工程において、部品表面や微細な隙間に残存する異物は、 製品の信頼性や歩留まりを大きく左右する可能性があります。 超音波洗浄は、こうした目に見えない微細な汚れに対して、物理的な力で アプローチできる精密洗浄の1つです。しかし、洗浄対象(ワーク)の 材質や形状、汚れの性質に応じて超音波洗浄装置を適切に条件設定しなければ、 十分な効果が得られないばかりか、ワークを破損させるリスクを伴います。 本コラムでは、超音波洗浄の原理・メカニズムから、装置選定や洗浄プロセスを 構築する上でのポイントを解説します。
