ウェーハ洗浄の課題を解決する、ソノシスの超音波洗浄
半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善
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基本情報
【特長】 ≪超精密高周波メガソニック洗浄スプレーノズル≫ ・シングル、デュアル、トリプルチャネルノズルと周波数の組み合わせによる多様な洗浄ニーズへの対応 ・400kHzから9MHzまでのメガソニック浸水型トランスデューサー ≪超精密高周波メガソニック浸漬洗浄型システム≫ ・ステンレス製またはプラスチック製トランスデューサー ・4"、6"、8"基板サイズに対応 ・バス・タンク式洗浄による費用対効果の向上 【当社の強み】 ティックコーポレーションは、お客様のニーズに応える製品を提供することに注力しています。長年の経験と幅広い製品ラインナップから、最適な洗浄ソリューションをご提案します。
価格帯
納期
用途／実績例
枚葉式超音波洗浄装置（Single Wafer Cleaning Systems） 用途 • 単一基板の非接触洗浄 • 高精度なパーティクル除去 • 純水を媒体としたメガソニック洗浄 • 半導体・光学部品の高純度洗浄 事例 • シングル・デュアル・トリプルノズル構成でのカスタム洗浄装置として半導体メーカーに導入 メガソニック洗浄ノズル（Megasonic Cleaning Nozzles） 用途 • シングルウェハー洗浄 • フォトマスク洗浄 • MEMS・微細構造体の非接触洗浄 • リフトオフ工程 • 半導体前工程の薬液洗浄効率向上 • ウェットベンチ工程の省エネ化（薬液・電力削減） 事例 • 400kHz〜9MHzの高周波メガソニックを用いた半導体前工程洗浄装置として世界各国で採用 • 微細なマイクロ・ナノ構造物の損傷を抑えた洗浄ソリューションとしてMEMSメーカーで採用
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企業情報
ティックコーポレーションは、生産効率の改善・経費効率の向上・品質の向上・環境保全への配慮など企業が直面する諸問題の解決に寄与する製品を提供することをモットーに広く世界から製品情報を収集し、市場のニーズに応える製品を提供してまいりました。 今後も合理化に寄与する製品や近年特に厳しくなっている環境保全に寄与する製品を開発し、お届けできるよう努力してゆく所存です。 ◇◆主な取扱商品◇◆ ・精密工業用スプレーノズル ・農業用スプレーノズル ・エアーノズル / エアーナイフ ・特殊スプレーノズル ・タンク洗浄ノズル ・ブロワー ・超音波スプレーノズル（ネブライザー / アトマイザー） ・超音波洗浄装置 ・空気搬送装置 ・ベンチレーター ・プラスチックコネクター ・切断火口（ガスカッター用ノズル） ・ラテックス テスター ・自社製チュービングポンプ（ディスペンサー） ・シリンジポンプ
