オゾン水生成装置 - 企業ランキング(全15社)
更新日: 集計期間:2025年07月02日〜2025年07月29日
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企業情報を表示
会社名 | 代表製品 | ||
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製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
【特徴】 ○これ一台でオゾンガスも使えます。MAX600mg/hrで広い空間にも対応。 ○室内空気を使いオゾンを作るため、原料ガスは不要です。 ○空冷のため冷却水は不要です。 ○従業員のいる昼間はオゾン水、無人の夜間はオゾンガスを自動で使い分けられます。 | 食品工場 水産加工場 病院 | ||
【仕様】一部抜粋 ■冷却方式:ラジエータ循環水冷方式 ■オゾン水濃度測定:内臓 紫外線オゾン水濃度計 ■消費電力:1kw | 半導体製造などの工場で使用されます。 半導体洗浄の分野では、有機物除去や金属除去に効果があるオゾン水濃度として20ppmがよく用いられております。 半導体のレジスト剥離という用途の場合には、100ppm以上のオゾン水が用いられることもあります。 | ||
【その他の特長】 ■最高オゾン水濃度20ppm ■濃度自動制御 ■最大オゾン水吐出量10L/min ■タッチパネル搭載 ■表面酸化 ■有機物洗浄 ■レジスト剥離 | 【用途】 ■半導体洗浄 ■液晶製造工程 ■太陽電池洗浄 | ||
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- 代表製品
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オゾンガス・オゾン水生成装置 ED-OW-6
- 概要
- 【特徴】 ○これ一台でオゾンガスも使えます。MAX600mg/hrで広い空間にも対応。 ○室内空気を使いオゾンを作るため、原料ガスは不要です。 ○空冷のため冷却水は不要です。 ○従業員のいる昼間はオゾン水、無人の夜間はオゾンガスを自動で使い分けられます。
- 用途/実績例
- 食品工場 水産加工場 病院
循環式メタルフリーオゾン水生成装置『OWF-C5L30P』
- 概要
- 【仕様】一部抜粋 ■冷却方式:ラジエータ循環水冷方式 ■オゾン水濃度測定:内臓 紫外線オゾン水濃度計 ■消費電力:1kw
- 用途/実績例
- 半導体製造などの工場で使用されます。 半導体洗浄の分野では、有機物除去や金属除去に効果があるオゾン水濃度として20ppmがよく用いられております。 半導体のレジスト剥離という用途の場合には、100ppm以上のオゾン水が用いられることもあります。
メタルフリー小型オゾン水生成装置『OWF-10L20P』
- 概要
- 【その他の特長】 ■最高オゾン水濃度20ppm ■濃度自動制御 ■最大オゾン水吐出量10L/min ■タッチパネル搭載 ■表面酸化 ■有機物洗浄 ■レジスト剥離
- 用途/実績例
- 【用途】 ■半導体洗浄 ■液晶製造工程 ■太陽電池洗浄
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