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グローブボックス - 企業ランキング(全45社)

更新日: 集計期間:2026年07月22日〜2026年08月18日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

会社名 代表製品
製品画像・製品名・価格帯 概要 用途/実績例
装置形態:巻取式マグネトロンスパッタリング装置 基板寸法:最大幅1000mmまで対応 カソード数:最大4元 膜種:金属・磁性膜・反応性酸化膜 オプション機構: プラズマ前処理機構・イオンガン・ランプヒータ・加熱ロール等 ※FPC(フレキシブルプリント基板) ・メッキシード層形成 ※先端材料 ・ナノカーボン材料成長層形成 ・炭素繊維表面メタライズ
6インチウェハ対応の石英管の横型炉を標準とし、8インチ、縦型炉がオプション対応 高真空排気系も装備可能で、より純度の高い還元雰囲気熱処理が可能。 実績豊富な機器構成に加えボートローダーやデータロギング機構などの周辺機器も豊富にラインアップ。 不活性雰囲気アニールにも対応でき... 半導体 ・研磨後ウェハ熱処理 ・電極膜シンター ・高融点金属膜アニール ・化合物半導体べーく SAWデバイス ・誘電体ウェハアニール フレキシブルデバイス ・金属配線パターン焼成 こがた金属部品還元アニール
立体毛状基板(機械部品・治工具・金型)対応の従来型硬質膜用ADMS装置にAlN膜用カソードとプロセスソフト装備可能 ウェハやセラミックなどの平面基板でなく立体形状品への成膜を高高率で実現。 高い信頼性を持つ全自動量産システムをラインナップ。 半導体製造装置部品・静電チャック セラミック表面処理 ヒートシンク 絶縁基板 治工具 金型等
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  1. 代表製品
    SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置)SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置)
    概要
    装置形態:巻取式マグネトロンスパッタリング装置 基板寸法:最大幅1000mmまで対応 カソード数:最大4元 膜種:金属・磁性膜・反応性酸化膜 オプション機構: プラズマ前処理機構・イオンガン・ランプヒータ・加熱ロール等
    用途/実績例
    ※FPC(フレキシブルプリント基板) ・メッキシード層形成 ※先端材料 ・ナノカーボン材料成長層形成 ・炭素繊維表面メタライズ
    水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)
    概要
    6インチウェハ対応の石英管の横型炉を標準とし、8インチ、縦型炉がオプション対応 高真空排気系も装備可能で、より純度の高い還元雰囲気熱処理が可能。 実績豊富な機器構成に加えボートローダーやデータロギング機構などの周辺機器も豊富にラインアップ。 不活性雰囲気アニールにも対応でき...
    用途/実績例
    半導体 ・研磨後ウェハ熱処理 ・電極膜シンター ・高融点金属膜アニール ・化合物半導体べーく SAWデバイス ・誘電体ウェハアニール フレキシブルデバイス ・金属配線パターン焼成 こがた金属部品還元アニール
    ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置)ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置)
    概要
    立体毛状基板(機械部品・治工具・金型)対応の従来型硬質膜用ADMS装置にAlN膜用カソードとプロセスソフト装備可能 ウェハやセラミックなどの平面基板でなく立体形状品への成膜を高高率で実現。 高い信頼性を持つ全自動量産システムをラインナップ。
    用途/実績例
    半導体製造装置部品・静電チャック セラミック表面処理 ヒートシンク 絶縁基板 治工具 金型等